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公开(公告)号：CN117153723B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202311113227.2
申请日：2023-08-31
Applicant: 重庆大学
IPC: H01L21/67 , H01L21/306 , B05D3/06
Abstract: 本发明公开了一种规避顶Mo缩进的湿法刻蚀装置；所述湿法刻蚀装置按照基板的传输方向依次设有干区间、刻蚀区间、缓冲区间、水洗区间和风干区间；所述刻蚀区间内设有第一磁铁装置，所述缓冲区间内还设有第二磁铁装置，所述湿法刻蚀装置还包括涡流管，所述缓冲区间内还设有热风口和第一排气口，所述缓冲风刀的外形设置成弧形，缓冲风刀的斜上方设有热气管，热气管的喷嘴正对缓冲风刀，所述涡流管的热气支管分别与热风口和热气管连通；所述湿法刻蚀装置还包括冷却装置，所述涡流管的冷气支管与冷却装置连通。本发明能够有效地避免Mo/Al、Mo/Al/Mo刻蚀制程中的顶Mo缩进问题，避免显示污渍等品质问题，确保产品品质和良率。
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公开(公告)号：CN102583035B
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201210059722.5
申请日：2012-03-08
Applicant: 重庆大学
IPC: B65G47/248
Abstract: 本发明公开了石膏墙体砖翻转机，包括底座、滑动平台、翻转装置和翻转动力机构；所述滑动平台包括固定安装在所述底座上的导轨、与所述导轨配合的滑动板和用于驱动所述滑动板在所述导轨上滑动的滑动气缸，所述滑动板上固定安装有带座轴承，所述带座轴承的左右两侧分别设有用于限定所述翻转装置转动范围并支撑所述翻转装置的限位机构I和限位机构II；所述翻转装置包括翻转架支架和并排安装在所述翻转架支架上的翻转架，所述翻转架的上下两端固定安装有与墙体砖相配的翻转抓板，所述翻转架支架的底部通过翻转横轴铰接安装在所述带座轴承上；所述动力机构包括翻转气缸，所述翻转气缸一端铰接在所述翻转架支架上，另一端铰接在所述底座上。
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公开(公告)号：CN114695207B
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202210326399.7
申请日：2022-03-30
Applicant: 重庆大学
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置，所述湿法刻蚀装置包括等离子体清洗腔和刻蚀腔；所述湿法刻蚀装置还包括涡流管、冷却风刀Ⅰ、冷却风刀Ⅱ、加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ；所述涡流管的冷气管分别与冷却风刀Ⅰ和冷却风刀Ⅱ连通，所述涡流管的热气管分别与加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ连通。本发明通过引入涡流管形成特殊的气路装置，该装置可以将气体分离成冷气体和热气体，冷气体对基板和等离子体清洗腔进行降温，避免高压等离子体对Al、Cu、ITO等膜层的损伤，又可以充分去除有机物避免刻蚀残留，还能抑制挥发出的刻蚀蒸汽对膜层的腐蚀，防止线宽偏小的问题。同时，该装置分离出的热气体可以确保刻蚀腔室温度分布均匀，提升刻蚀均一性。
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公开(公告)号：CN117153723A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202311113227.2
申请日：2023-08-31
Applicant: 重庆大学
IPC: H01L21/67 , H01L21/306 , B05D3/06
Abstract: 本发明公开了一种规避顶Mo缩进的湿法刻蚀装置；所述湿法刻蚀装置按照基板的传输方向依次设有干区间、刻蚀区间、缓冲区间、水洗区间和风干区间；所述刻蚀区间内设有第一磁铁装置，所述缓冲区间内还设有第二磁铁装置，所述湿法刻蚀装置还包括涡流管，所述缓冲区间内还设有热风口和第一排气口，所述缓冲风刀的外形设置成弧形，缓冲风刀的斜上方设有热气管，热气管的喷嘴正对缓冲风刀，所述涡流管的热气支管分别与热风口和热气管连通；所述湿法刻蚀装置还包括冷却装置，所述涡流管的冷气支管与冷却装置连通。本发明能够有效地避免Mo/Al、Mo/Al/Mo刻蚀制程中的顶Mo缩进问题，避免显示污渍等品质问题，确保产品品质和良率。
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公开(公告)号：CN117130235A
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202311113226.8
申请日：2023-08-31
Applicant: 重庆大学
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明公开了一种避免寄生栅极效应和斜纹Mura的光刻胶剥离装置；所述光刻胶剥离装置按照基板的传输方向依次设有干区间、剥离区间、热水洗区间、过冷水洗区间和风干区间；所述剥离区间的出口处设有用于向基板表面吹热风的热风刀，所述热水洗区间内设有用于向基板表面喷淋热水的第二喷淋管；所述过冷水洗区间的入口处设有用于向基板表面吹冷风的冷风刀，所述过冷水洗区间内设有用于向基板表面喷淋过冷水的第三喷淋管；所述光刻胶剥离装置还包括涡流管、加热装置和冷却装置。本发明规避了寄生栅极效应、斜纹Mura造成的产品良率和品质风险；并保证了光刻胶剥离设备的通用性，有益于产线物流优化和产能提升。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115105858A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210710320.0
申请日：2022-06-22
Applicant: 重庆大学
Abstract: 本发明公开了一种ITO刻蚀液结晶抑制装置；所述ITO刻蚀液结晶抑制装置包括离子吸附循环系统和结晶物去除循环系统；所述离子吸附循环系统包括离子吸附管道、第一加热装置和离子吸附装置；所述结晶物去除循环系统包括结晶物去除管道、冷却装置、离心过滤机和第二加热装置。本发明能够有效的使ITO刻蚀液中的金属离子浓度保持低水平，并且高效的去除ITO刻蚀液中的结晶物。
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公开(公告)号：CN102874492B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201210383452.3
申请日：2012-09-20
Applicant: 重庆大学
IPC: B65D85/20
Abstract: 本发明公开了一种金属管保护套，所述保护套包括：外层整体护管、两瓣式内层护套、内层护套锥块、帽子I、螺钉、帽子I I、顶块、外层护管凹槽、锥块、铆钉；该保护套采用双层结构，外层为整体护管，内层为两掰式内层护套，增加了保护套的硬度和强度，提高了安全性，能够起到很好的保护作用；在两掰式内层护套的顶部和尾部设置有可拆式帽子，使得保护套的工作灵活性增加，能适应更加复杂的环境，在尾部的帽子的边圈设置有一定锥度，便于与两掰式内层护套的尾部的锥块相契合，增加其紧密型，结构简单，实用性强，较好的解决了以往金属管保护套存在的问题，制成了性能优异的金属管保护套。
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公开(公告)号：CN102874505A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210416171.3
申请日：2012-10-26
Applicant: 重庆大学
Abstract: 本发明公开了一种粉料给料器，包括储料槽、设置在储料槽上的粉料流量调节阀和设置在储料槽下方用于振动储料槽的直线振动器，所述直线振动器以其轴向和储料槽中粉料的水平前进方向成锐角相交结构倾斜布置。本通过粉料流量调节阀可调节粉料的流量，保证下料量的精度、稳定性和防止料流量过大造成堵塞；可通过直线振动器振动储料槽，使粉料做抛物线运动，并呈波浪式前进，消除粉料粘结成团，使粉料流密度均匀密实，降低粉料摩擦力，可保证粉料运行平稳，流量稳定，运动顺畅，避免储料槽堵塞；其储料槽的出料端成V形收口状，出料口设置在V形角部，该特殊结构的设计可防止过多粉料堆积在储料槽的出料端，避免堵塞出料口。
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公开(公告)号：CN102874492A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210383452.3
申请日：2012-09-20
Applicant: 重庆大学
IPC: B65D85/20
Abstract: 本发明公开了一种金属管保护套，所述保护套包括：外层整体护管、两瓣式内层护套、内层护套锥块、帽子I、螺钉、帽子I I、顶块、外层护管凹槽、锥块、铆钉；该保护套采用双层结构，外层为整体护管，内层为两掰式内层护套，增加了保护套的硬度和强度，提高了安全性，能够起到很好的保护作用；在两掰式内层护套的顶部和尾部设置有可拆式帽子，使得保护套的工作灵活性增加，能适应更加复杂的环境，在尾部的帽子的边圈设置有一定锥度，便于与两掰式内层护套的尾部的锥块相契合，增加其紧密型，结构简单，实用性强，较好的解决了以往金属管保护套存在的问题，制成了性能优异的金属管保护套。
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