公开(公告)号：CN102846333B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201210220584.4

申请日：2012-06-29

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 吴小页 ,  谢强 ,  P.赛纳思 ,  X.刘

IPC: A61B6/03 ,  G01N23/04 ,  G06T5/00

CPC classification number: A61B6/032 ,  A61B6/06 ,  A61B6/4085 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/483 ,  A61B6/5205 ,  A61B6/5282

Abstract: 本发明的名称为：“用于X射线成像中的散射校正的方法和系统”。公开用于使用散射X射线的反向跟踪来得出散射信息的方式。在某些实施例中，与从源进行到探测器的跟踪方案相反，跟踪从探测器上的相应位置到X射线辐射源的散射射线。在一种这样的方式中，反向跟踪使用密度积分容积来实现，这减少所执行的积分步骤。

公开(公告)号：CN102846333A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201210220584.4

申请日：2012-06-29

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 吴小页 ,  谢强 ,  P.赛纳思 ,  X.刘

IPC: A61B6/03 ,  G01N23/04 ,  G06T5/00

CPC classification number: A61B6/032 ,  A61B6/06 ,  A61B6/4085 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/483 ,  A61B6/5205 ,  A61B6/5282

Abstract: 本发明的名称为用于X射线成像中的散射校正的方法和系统。公开用于使用散射X射线的反向跟踪来得出散射信息的方式。在某些实施例中，与从源进行到探测器的跟踪方案相反，跟踪从探测器上的相应位置到X射线辐射源的散射射线。在一种这样的方式中，反向跟踪使用密度积分容积来实现，这减少所执行的积分步骤。