公开(公告)号：CN1966770B

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN200610149223.X

申请日：2006-11-17

Applicant: 通用电气公司

Inventor： D·A·诺沃克 ,  P·S·迪马斯乔 ,  D·V·布茨

IPC: C23C28/00 ,  C23C30/00 ,  C23C4/06 ,  C23D3/00 ,  C23D5/00 ,  H01J37/317

CPC classification number: C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C28/3215 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455

Abstract: 本发明公开了用于涂敷金属基质(12)的方法、系统和由此制成的制品。在一个实施例中，涂敷金属基质(12)的方法包括：将金属粘合涂层(14)布置在金属基质(12)上，用反极性高频装置在大于或等于约2.5kHz的频率下产生离子，用离子将表面粗糙化到大于或等于约5μm的后续平均表面粗糙度的粗糙涂层(18)，并将陶瓷涂层(16)布置在粗糙涂层(18)上。金属粘合涂层(14)具有初始平均表面粗糙度小于或等于约1μm的表面。

公开(公告)号：CN1966770A

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：CN200610149223.X

申请日：2006-11-17

Applicant: 通用电气公司

Inventor： D·A·诺沃克 ,  P·S·迪马斯乔 ,  D·V·布茨

IPC: C23C28/00 ,  C23C30/00 ,  C23C4/06 ,  C23D3/00 ,  C23D5/00 ,  H01J37/317

CPC classification number: C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C28/3215 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455

Abstract: 本发明公开了用于涂敷金属基质(12)的方法、系统和由此制成的制品。在一个实施例中，涂敷金属基质(12)的方法包括：将金属粘合涂层(14)布置在金属基质(12)上，用反极性高频装置在大于或等于约2.5kHz的频率下产生离子，用离子将表面(18)粗糙化到大于或等于约5μm的后续平均表面粗糙度，并将陶瓷涂层(16)布置在金属粘合涂层表面(18)上。金属粘合涂层(14)具有初始平均表面粗糙度小于或等于约1μm的表面(18)。