公开(公告)号：CN111989177B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201980024712.8

申请日：2019-04-05

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 克里斯蒂安·韦克拉姆 ,  雷内·杜·考兹·德·纳泽尔 ,  丹尼尔·费希尔 ,  汉尼斯·哈德莱因 ,  维克托·恩格尔 ,  弗洛里安·霍弗勒 ,  雷切尔·温·莱文

IPC: B22F12/70 ,  B22F12/90 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02 ,  B29C64/153 ,  B29C64/371 ,  B23K26/12

Abstract: 提供了一种用于增材制造系统的流动控制装置。流动控制装置包括：气体供应装置，其被构造成排放气体；第一流动修改器，其被构造成修改气体的第一部分的至少一个流动特性；第二流动修改器，其被构造成与第一流动修改器协作以修改气体的第一部分的至少一个流动特性。第二流动修改器进一步被构造为修改气体的第二部分的至少一个流动特性，并且第一流动修改器和第二流动修改器被构造为进行协作，以引导气体的第一部分和第二部分中的至少一部分朝向多个颗粒中的熔池。

公开(公告)号：CN111989177A

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN201980024712.8

申请日：2019-04-05

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 克里斯蒂安·韦克拉姆 ,  雷内·杜·考兹·德·纳泽尔 ,  丹尼尔·费希尔 ,  汉尼斯·哈德莱因 ,  维克托·恩格尔 ,  弗洛里安·霍弗勒 ,  雷切尔·温·莱文

IPC: B22F3/105 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00 ,  B33Y50/02 ,  B29C64/153 ,  B29C64/371 ,  B23K26/12

Abstract: 提供了一种用于增材制造系统的流动控制装置。流动控制装置包括：气体供应装置，其被构造成排放气体；第一流动修改器，其被构造成修改气体的第一部分的至少一个流动特性；第二流动修改器，其被构造成与第一流动修改器协作以修改气体的第一部分的至少一个流动特性。第二流动修改器进一步被构造为修改气体的第二部分的至少一个流动特性，并且第一流动修改器和第二流动修改器被构造为进行协作，以引导气体的第一部分和第二部分中的至少一部分朝向多个颗粒中的熔池。