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公开(公告)号:CN111876734B
公开(公告)日:2022-05-17
申请号:CN202010684024.9
申请日:2020-07-16
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种纳米Ag‑Zn双层点阵涂层的制备方法,该方法包括步骤为:单晶硅基底经过表面处理;将AAO膜转移到基底贴合形成目标基底;将目标基底安装于仪器托盘底部,调整工作台使目标基底与溅射锌靶材中轴线重合且保持平行;溅射锌点阵和溅射银点阵;撕去AAO膜。本发明制备的涂层在抑制大肠杆菌和金黄色葡萄球菌等菌体的生长繁殖,同时对于受损细胞的分裂增值有促进作用,有益于伤口中细胞组织的愈合,制备完成的涂层呈圆球状单位元的Ag‑Zn混合点阵;其表面规整光滑且高度有序;且Ag离子与Zn离子分布均匀;涂层为疏水结构,其带有自清洁功能不易于细菌的粘附滋生。
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公开(公告)号:CN111876734A
公开(公告)日:2020-11-03
申请号:CN202010684024.9
申请日:2020-07-16
Applicant: 贵州大学
Abstract: 本发明公开了一种纳米Ag-Zn双层点阵涂层的制备方法,该方法包括步骤为:单晶硅基底经过表面处理;将AAO膜转移到基底贴合形成目标基底;将目标基底安装于仪器托盘底部,调整工作台使目标基底与溅射锌靶材中轴线重合且保持平行;溅射锌点阵和溅射银点阵;撕去AAO膜。本发明制备的涂层在抑制大肠杆菌和金黄色葡萄球菌等菌体的生长繁殖,同时对于受损细胞的分裂增值有促进作用,有益于伤口中细胞组织的愈合,制备完成的涂层呈圆球状单位元的Ag-Zn混合点阵;其表面规整光滑且高度有序;且Ag离子与Zn离子分布均匀;涂层为疏水结构,其带有自清洁功能不易于细菌的粘附滋生。
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