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公开(公告)号：CN114685790A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202110576089.6
申请日：2021-05-26
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 一种聚合物、包含其的组合物以及聚硅氧烷‑聚酰亚胺材料。该聚合物包含第一重复单元以及第二重复单元。其中，该第一重复单元具有式(I)所示结构，而第二重复单元具有式(II)所示结构，其中，A1及A3各自独立地为经取代或未经取代的四价基团；A2为经取代或未经取代的二价基团；n≥1；m≥1；R1各自独立地为氢、C1‑8烷基、C1‑8氟烷基、C1‑8烷氧基、或C6‑12芳基；R2为氢、C1‑8烷基、C1‑8氟烷基、C1‑8烷氧基、C6‑12芳基、或反应性官能团。
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公开(公告)号：CN101924066A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200910146997.0
申请日：2009-06-09
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明提供挠性基板自载板上脱离的方法及可挠式电子装置的制造方法，该挠性基板自载板上脱离的方法包含：提供挠性基板，其中该挠性基板具有下表面；对该挠性基板的下表面进行表面处理，以形成具有防粘特性的下表面；通过粘合剂层将该挠性基板配置于载板上，其中该具有防粘特性的下表面朝向该载板；以及，对配置于该载板上的该挠性基板进行切割脱离。
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公开(公告)号：CN114685790B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202110576089.6
申请日：2021-05-26
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 一种聚合物、包含其的组合物以及聚硅氧烷‑聚酰亚胺材料。该聚合物包含第一重复单元以及第二重复单元。其中，该第一重复单元具有式(I)所示结构，而第二重复单元具有式(II)所示结构，其中，A1及A3各自独立地为经取代或未经取代的四价基团；A2为经取代或未经取代的二价基团；n≥1；m≥1；R1各自独立地为氢、C1‑8烷基、C1‑8氟烷基、C1‑8烷氧基、或C6‑12芳基；R2为氢、C1‑8烷基、C1‑8氟烷基、C1‑8烷氧基、C6‑12芳基、或反应性官能团。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN110003651A
公开(公告)日：2019-07-12
申请号：CN201811629473.2
申请日：2018-12-28
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本公开提供一种聚酰亚胺前驱液，包括：100重量份的全芳香族聚酰胺酸(fully aromatic polyamic acid)；5-20重量份的二氧化硅(silica)粒子；5-80重量份的烷氧基硅烷(alkoxysilane)；及40-80重量份的溶剂。本公开亦提供一种聚酰亚胺混成材料及其制法。
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公开(公告)号：CN109975924A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201711480957.0
申请日：2017-12-29
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 一种光波导元件，包括下包覆层、核心层及上包覆层，核心层置于下包覆层及上包覆层之间。下包覆层的组成物包括不可被蚀刻的已闭环的聚酰亚胺及片状粘土，其中下包覆层之片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。核心层的组成物包括可被蚀刻的已闭环的聚酰亚胺及片状粘土，其中核心层的片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。上包覆层的组成物包括聚合物及片状粘土，其中上包覆层的片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。核心层的折射率大于上包覆层及下包覆层的折射率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109975924B
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN201711480957.0
申请日：2017-12-29
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 一种光波导元件，包括下包覆层、核心层及上包覆层，核心层置于下包覆层及上包覆层之间。下包覆层的组成物包括不可被蚀刻的已闭环的聚酰亚胺及片状粘土，其中下包覆层之片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。核心层的组成物包括可被蚀刻的已闭环的聚酰亚胺及片状粘土，其中核心层的片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。上包覆层的组成物包括聚合物及片状粘土，其中上包覆层的片状粘土的重量百分比介于20％至60％之间。核心层的折射率大于上包覆层及下包覆层的折射率。
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公开(公告)号：CN101924066B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN200910146997.0
申请日：2009-06-09
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明提供挠性基板自载板上脱离的方法及可挠式电子装置的制造方法，该挠性基板自载板上脱离的方法包含：提供挠性基板，其中该挠性基板具有下表面；对该挠性基板的下表面进行表面处理，以形成具有防粘特性的下表面；通过粘合剂层将该挠性基板配置于载板上，其中该具有防粘特性的下表面朝向该载板；以及，对配置于该载板上的该挠性基板进行切割脱离。
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公开(公告)号：CN110003651B
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN201811629473.2
申请日：2018-12-28
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本公开提供一种聚酰亚胺前驱液，包括：100重量份的全芳香族聚酰胺酸(fully aromatic polyamic acid)；5‑20重量份的二氧化硅(silica)粒子；5‑80重量份的烷氧基硅烷(alkoxysilane)；及40‑80重量份的溶剂。本公开亦提供一种聚酰亚胺混成材料及其制法。
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公开(公告)号：CN101924067B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN200910146998.5
申请日：2009-06-09
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明提供挠性膜自载板上脱离的方法及可挠式电子装置的制造方法。该挠性膜自载板上脱离的方法包含：提供载板，其中该载板具有上表面；对该载板的上表面进行表面处理，以形成具有防粘特性的上表面；形成挠性膜于该载板具有防粘特性的上表面；以及，对形成于该载板上的该挠性膜进行切割脱离。
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公开(公告)号：CN101924067A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200910146998.5
申请日：2009-06-09
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明提供挠性膜自载板上脱离的方法及可挠式电子装置的制造方法。该挠性膜自载板上脱离的方法包含：提供载板，其中该载板具有上表面；对该载板的上表面进行表面处理，以形成具有防粘特性的上表面；形成挠性膜于该载板具有防粘特性的上表面；以及，对形成于该载板上的该挠性膜进行切割脱离。
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