三维测量设备与三维测量方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116265860A

    公开(公告)日:2023-06-20

    申请号:CN202210171630.X

    申请日:2022-02-24

    Abstract: 本发明公开一种三维测量设备与三维测量方法。三维测量设备包括一基座、一治具、一测量装置以及一控制器。治具配置于基座上且用以供一待测物放置。治具具有多个支撑杆。支撑杆的高度可调。测量装置安装于基座上,且可相对于治具移动。控制器信号连接测量装置与治具,并经配置以执行下列步骤。根据待测物的三维模型数据调整支撑杆的高度以支撑待测物。驱动测量装置相对于治具移动地测量待测物。

    运动控制伺服回路装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101776861A

    公开(公告)日:2010-07-14

    申请号:CN200910003022.2

    申请日:2009-01-08

    Abstract: 一种运动控制伺服回路装置,其包含一前馈控制模块、一比例-积分-微分控制回路及一补偿项加法器,该前馈控制模块可产生一前馈补偿项;该比例-积分-微分控制回路包括一比例控制模块、一积分控制模块及一微分控制模块,该比例控制模块可产生一比例补偿项,该微分控制模块可产生一微分补偿项;该积分控制模块采用数字差分分析演算法则,在每次积分抽样时间对位置误差量在每一数字差分分析脉冲产生的时刻累加误差量,逐次进行积分动作并输出一误差积分累加量,再处理该误差积分累加量产生一积分补偿项;再由该补偿项加法器接收该前馈补偿项、比例补偿项、积分补偿项及微分补偿项,并计算出驱动器运动位置误差补偿量。

    测量设备
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114623742B

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN202011516015.5

    申请日:2020-12-21

    Abstract: 本发明公开一种测量设备,包括基座以及定位装置。基座包括测量中心轴。定位装置包括至少二定位元件,各定位元件设置于基座上且可移动地定位。各定位元件能相对于测量中心轴移动,使各定位元件分别与测量中心轴之间的距离相同。各定位元件用以供工件抵靠,以将工件定位于测量中心轴。

    测量设备
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114623742A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202011516015.5

    申请日:2020-12-21

    Abstract: 本发明公开一种测量设备,包括基座以及定位装置。基座包括测量中心轴。定位装置包括至少二定位元件,各定位元件设置于基座上且可移动地定位。各定位元件能相对于测量中心轴移动,使各定位元件分别与测量中心轴之间的距离相同。各定位元件用以供工件抵靠,以将工件定位于测量中心轴。

    光学测量稳定性控制系统

    公开(公告)号:CN111121651A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201910789689.3

    申请日:2019-08-26

    Abstract: 本发明公开一种光学测量稳定性控制系统,其包括机壳、循环流场、光学测量系统以及散热流场。机壳具有密闭空间。循环流场位于密闭空间中且适于产生在密闭空间中流动的气流。光学测量系统位于密闭空间中且位于气流的流动路径上。散热流场与机壳连接且位于流动路径的终端。散热流场通过热传导及强制对流将热排出密闭空间。

    运动控制伺服回路装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101776861B

    公开(公告)日:2012-02-08

    申请号:CN200910003022.2

    申请日:2009-01-08

    Abstract: 一种运动控制伺服回路装置,其包含一前馈控制模块、一比例-积分-微分控制回路及一补偿项加法器,该前馈控制模块可产生一前馈补偿项;该比例-积分-微分控制回路包括一比例控制模块、一积分控制模块及一微分控制模块,该比例控制模块可产生一比例补偿项,该微分控制模块可产生一微分补偿项;该积分控制模块采用数字差分分析演算法则,在每次积分抽样时间对位置误差量在每一数字差分分析脉冲产生的时刻累加误差量,逐次进行积分动作并输出一误差积分累加量,再处理该误差积分累加量产生一积分补偿项;再由该补偿项加法器接收该前馈补偿项、比例补偿项、积分补偿项及微分补偿项,并计算出驱动器运动位置误差补偿量。

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