基于机械弯曲台的SiN埋绝缘层上单轴应变SGOI晶圆的制作方法

    公开(公告)号:CN102437019B

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201110361521.6

    申请日:2011-11-16

    Abstract: 本发明公开了一种基于机械弯曲台的SiN埋绝缘层上单轴应变SGOI晶圆的制作方法,包括以下步骤:1)SGOI晶圆顶层SiGe层面向上或向下放置在弧形弯曲台上;2)两根圆柱形不锈钢压杆分别水平放置在SGOI晶圆两端,距SGOI晶圆边缘1cm;3)缓慢旋动连接压杆的螺帽,使SGOI晶圆沿弧形台面逐渐弯曲,直至SGOI晶圆完全与弧形台面贴合;4)载有SGOI晶圆的弧形弯曲台放置在退火炉中进行退火;5)退火结束后缓慢降温至室温,取出载有SGOI晶圆片的弧形弯曲台;6)旋动连接压杆的螺帽,将压杆缓慢提升,直至弯曲的SGOI晶圆回复原状。本发明具有如下优点:1)热性能优良;2)应变效果高;3)表面粗糙度小;4)退火温度范围大;5)制作设备少且可自制;6)制作工艺简单。

    基于机械弯曲台的SiN埋绝缘层上单轴应变SGOI晶圆的制作方法

    公开(公告)号:CN102437019A

    公开(公告)日:2012-05-02

    申请号:CN201110361521.6

    申请日:2011-11-16

    Abstract: 本发明公开了一种基于机械弯曲台的SiN埋绝缘层上单轴应变SGOI晶圆的制作方法,包括以下步骤:1)SGOI晶圆顶层SiGe层面向上或向下放置在弧形弯曲台上;2)两根圆柱形不锈钢压杆分别水平放置在SGOI晶圆两端,距SGOI晶圆边缘1cm;3)缓慢旋动连接压杆的螺帽,使SGOI晶圆沿弧形台面逐渐弯曲,直至SGOI晶圆完全与弧形台面贴合;4)载有SGOI晶圆的弧形弯曲台放置在退火炉中进行退火;5)退火结束后缓慢降温至室温,取出载有SGOI晶圆片的弧形弯曲台;6)旋动连接压杆的螺帽,将压杆缓慢提升,直至弯曲的SGOI晶圆回复原状。本发明具有如下优点:1)热性能优良;2)应变效果高;3)表面粗糙度小;4)退火温度范围大;5)制作设备少且可自制;6)制作工艺简单。

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