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公开(公告)号：CN113419400A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202110604779.8
申请日：2021-05-31
Applicant: 西安电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种基于纳米压印的等离子柔性透明薄膜及其制备方法，该制备方法首先以目标纳米结构为模板，以紫外固化胶为压印材料进行一次压印，在透明玻璃表面形成与所述目标纳米结构对应的相反纳米结构；其次，以所述相反纳米结构为模板，以透明薄膜为基底，以紫外固化胶为压印材料进行二次压印，在透明薄膜基底上表面形成与目标纳米结构相同的结构；最后，在所得的与目标纳米结构相同的结构表面生成贵金属纳米层，从而形成所述等离子柔性透明薄膜。该制备方法操作简单，重复性高，可用于制备高活性表面增强拉曼光谱术基底，实现简单的粘贴‑读出式拉曼光谱原位检测。
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公开(公告)号：CN114594588B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202210067260.5
申请日：2022-01-20
Applicant: 西安电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置和方法，所述装置包括依次设置的结构光产生单元、相移及光强调制单元和成像单元，其中，结构光产生单元用于产生多束沿不同方向传播的平行光并干涉形成条纹结构光；相移及光强调制单元中的空间光调制器上能够加载不同图样以对条纹结构光同时进行方向选择和相移操作，空间掩膜板用于对条纹结构光进行滤波，使得仅保留每个方向上±1级衍射光而滤掉其它的衍射光；成像单元用于利用滤波后的条纹结构光照明样品并记录在不同条纹结构光照明下的荧光图像。本发明在保持高分辨率的情况下仍然具有高通量成像范围，克服了传统结构光照明显微镜成像通量受SLM或DMD本身像素个数限制的问题。
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公开(公告)号：CN114594588A
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202210067260.5
申请日：2022-01-20
Applicant: 西安电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置和方法，所述装置包括依次设置的结构光产生单元、相移及光强调制单元和成像单元，其中，结构光产生单元用于产生多束沿不同方向传播的平行光并干涉形成条纹结构光；相移及光强调制单元中的空间光调制器上能够加载不同图样以对条纹结构光同时进行方向选择和相移操作，空间掩膜板用于对条纹结构光进行滤波，使得仅保留每个方向上±1级衍射光而滤掉其它的衍射光；成像单元用于利用滤波后的条纹结构光照明样品并记录在不同条纹结构光照明下的荧光图像。本发明在保持高分辨率的情况下仍然具有高通量成像范围，克服了传统结构光照明显微镜成像通量受SLM或DMD本身像素个数限制的问题。
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