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公开(公告)号：CN112376019A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN202011117288.2
申请日：2020-10-19
Applicant: 西安工程大学
Abstract: 本发明公开了一种磁吸附局部真空蒸镀的方法，具体包括以下步骤：真空蒸镀前，将蒸镀体与基板固定，然后利用磁场将磁性图案吸附于蒸镀体表面的设定区域，通过真空蒸镀方法使蒸镀体表面完全被金属薄膜覆盖，蒸镀过程结束后，撤掉磁场取下磁性图案即完成局部蒸镀；既可以省去传统化学药品清洗保护涂料的工序，又可以快速高效的完成局部蒸镀过程，避免了污水处理问题，降低了成本，是一种绿色无污染的局部蒸镀方法。
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