一种基于光通量检测的MEMS光学电场传感器

    公开(公告)号:CN116047139A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202310092196.0

    申请日:2023-02-09

    Abstract: 本发明公开了一种基于光通量检测的MEMS光学电场传感器,硅微结构栅格层与玻璃镀铬栅格层上下排布组成敏感结构,下层硅微结构通过弹簧连接在底层硅结构之上,上层玻璃镀铬层通过键合的方式固定在硅微结构之上,上层结构固定不动下层硅微结构随电场变化发生形变,光源从正上方垂直入射,再穿过两层结构后被接收,下层硅微结构的形变引发的栅格与上层栅格重叠面积发生变化,从而实现接收光通量的变化,能够实现强电磁环境下的电场强度测量,制备封装方法简单,便于安装使用,且成本较低,可应用于电力系统状态监测、空间电场检测等多场景测电场。

    一种类金刚石防护涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119843223A

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202510065897.4

    申请日:2025-01-16

    Abstract: 本发明属于硬质薄膜技术领域,具体涉及一种类金刚石防护涂层及其制备方法和应用。本发明提供的类金刚石防护涂层的制备方法包括以下步骤:在柔性聚合物基材表面进行等离子气相物理沉积,形成类金刚石防护涂层;所述等离子气相物理沉积的条件包括:靶基距为15~50cm,真空度为0.1~10Pa,离子源电压为50~500V,离子源电流为0.5~10A,沉积时间为10~1200s,碳源气体的流量为50~500sccm,占空比为10~90%,沉积温度为10~25℃。本发明在特定条件下于室温下进行等离子气相物理沉积,制备得到的类金刚石防护涂层兼具良好的力学性能和透光率,用于微型柔性电子器件能够提高其可靠性和使用寿命。

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