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公开(公告)号：CN103786346A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201410068827.6
申请日：2014-02-27
Applicant: 西安交通大学
IPC: B29C67/00
Abstract: 本发明公开了一种可变倍的面曝光投影3D打印快速成型系统，包括投影系统、计算机、成型系统、以及用于调节投影系统与成型系统之间间距的第一传动轴；所述投影系统包括动态掩膜板、紫外光源、投影透镜及用于调整动态掩膜板与投影透镜之间间距的第二传动轴，成型系统包括光敏溶液槽、零件成型托板、以及带动零件成型托板移动的第三传动轴，光敏溶液槽内有光敏溶液，零件成型托板处于光敏溶液中，本发明还提供了一种可变倍的面曝光投影3D打印快速成型方法。本发明可以实现成形截面分辨率实时调整、零件在高度方向上连续成形。
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公开(公告)号：CN103786346B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201410068827.6
申请日：2014-02-27
Applicant: 西安交通大学
IPC: B29C67/00
Abstract: 本发明公开了一种可变倍的面曝光投影3D打印快速成型系统，包括投影系统、计算机、成型系统、以及用于调节投影系统与成型系统之间间距的第一传动轴；所述投影系统包括动态掩膜板、紫外光源、投影透镜及用于调整动态掩膜板与投影透镜之间间距的第二传动轴，成型系统包括光敏溶液槽、零件成型托板、以及带动零件成型托板移动的第三传动轴，光敏溶液槽内有光敏溶液，零件成型托板处于光敏溶液中，本发明还提供了一种可变倍的面曝光投影3D打印快速成型方法。本发明可以实现成形截面分辨率实时调整、零件在高度方向上连续成形。
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公开(公告)号：CN105216320A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510679434.3
申请日：2015-10-19
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明公开了一种双光路投影曝光3D打印装置及方法，装置包括计算机、大面积投影曝光装置、精密投影曝光装置、成形装置以及用于转换曝光模式和调整精密投影曝光装置位置的高精度位移平台。大面积投影曝光装置包括紫外光源、动态掩模板、放大投影镜头、反射镜；精密投影曝光装置包括紫外光源、动态掩模板、缩小投影镜头；成形装置包括光敏溶液槽、零件成形托板和带动零件成形托板运动的垂直运动工作台，光敏溶液槽内有光敏溶液，零件成形托板处于光敏溶液中。本发明还提供了一种双光路光投影3D打印方法。本发明可根据零件不同部位对精度要求的不同，采用相应的投影曝光装置对其进行加工，在保证零件制作速度的同时提高零件细微结构的制作精度。
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公开(公告)号：CN105216320B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201510679434.3
申请日：2015-10-19
Applicant: 西安交通大学
IPC: B29C64/20 , B29C64/124 , B29C64/129 , B33Y30/00
Abstract: 本发明公开了一种双光路投影曝光3D打印装置及方法，装置包括计算机、大面积投影曝光装置、精密投影曝光装置、成形装置以及用于转换曝光模式和调整精密投影曝光装置位置的高精度位移平台。大面积投影曝光装置包括紫外光源、动态掩模板、放大投影镜头、反射镜；精密投影曝光装置包括紫外光源、动态掩模板、缩小投影镜头；成形装置包括光敏溶液槽、零件成形托板和带动零件成形托板运动的垂直运动工作台，光敏溶液槽内有光敏溶液，零件成形托板处于光敏溶液中。本发明还提供了一种双光路光投影3D打印方法。本发明可根据零件不同部位对精度要求的不同，采用相应的投影曝光装置对其进行加工，在保证零件制作速度的同时提高零件细微结构的制作精度。
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