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公开(公告)号：CN116130971A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202310086333.X
申请日：2023-02-07
Applicant: 西安交通大学
IPC: H01Q15/00
Abstract: 本发明公开了一种基于形状记忆材料的可重构超构光栅，包括：电容型金属结构蚀刻于FR4介质基板的上表面；形状记忆可形变材料层设置在FR4介质基板的下表面；形状记忆可形变材料层设置在金属反射板上。本发明通过引入形状记忆可形变材料层进行超构光栅设计，降低了制造难度，减少了成本，不需要外加电源，不需要复杂的馈电。本发明通过改变单元阻抗密度的原理设计可重构超构光栅，实现精准出射角度控制及能量分配。
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