一种利用化学自组装制造线宽可控的SWNT规模阵列的方法

    公开(公告)号:CN108467009A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201810183420.6

    申请日:2018-03-06

    CPC classification number: B82B3/0014 B82Y40/00

    Abstract: 一种利用化学自组装制造线宽可控的SWNT规模阵列的方法,先将SWNT在十二烷基硫酸钠水溶液中超声得到水环境中非共价修饰的SWNT;然后在二氧化硅基底表面涂覆聚甲基丙烯酸甲酯,电子束曝光获得PMMA-SiO2基底,将PMMA-SiO2基底进行氧等离子体清洗,浸入氨丙基三乙氧基硅烷和无水乙醇的溶液中,丙酮清洗,再浸入十八烷基三氯硅烷和无水乙醇的溶液中,得到在SiO2表面构筑自组装膜的功能化基底;最后将非共价修饰的SWNT转移到功能化基底表面,确保移液量完全覆盖功能化基底,大气环境中自然蒸发晾干,去离子水超声洗涤,重复转移、晾干、超声洗涤,即得到SWNT规模阵列,本发明组装工艺简单,阵列清晰,SWNT在线宽结构内排列均匀。

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