一种高效五氧化二铌光催化材料及其刻蚀制备方法和应用

    公开(公告)号:CN117414817A

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202311369819.0

    申请日:2023-10-23

    Inventor: 高爽 杨欣和

    Abstract: 本发明公开了一种高效五氧化二铌光催化材料及其刻蚀制备方法和应用,属于无机非金属材料制备、太阳能利用与环境保护技术领域。具体为采用熔盐刻蚀的方法将锡系铌酸盐中的锡元素刻蚀去除,得到高催化活性的五氧化二铌,制备获得的材料晶粒尺寸小于200 nm,在模拟太阳光照射下对于有机污染物具有高效降解活性,同时具有光催化二氧化碳还原活性;可作为一种半导体材料直接应用于太阳光照射下环境中污染物的净化降解和二氧化碳的光催化还原及碳中和领域。

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