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公开(公告)号:CN118995052A
公开(公告)日:2024-11-22
申请号:CN202411079518.9
申请日:2024-08-07
Applicant: 西北工业大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种高效抛光的磨粒流浆料及其制备方法,属于精密加工技术领域,该方法在制备过程中使用了粒径为300‑500nm、0.8‑1.2μm和4‑5μm的碳化硅陶瓷磨粒,确保了磨粒在浆料体系中的稳定性和流动性,三种粒径的碳化硅陶瓷磨粒,避免了因颗粒质量过大导致的快速下沉,同时也防止了因比表面积过大而引发的团聚和沉降现象。同时兼顾了大粒径的抛光效率和小粒径的抛光精度。利用了小颗粒对大颗粒流动过程的润滑作用降低了体系的粘度,提高了浆料的流动性,使得浆料可以均匀地对复杂内流道进行抛光。
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公开(公告)号:CN117969572A
公开(公告)日:2024-05-03
申请号:CN202410044726.9
申请日:2024-01-11
Applicant: 西北工业大学
IPC: G01N23/2202 , G01N23/2251
Abstract: 本发明提供一种难熔高熵合金EBSD样品的制备方法,包括:S1,切割难熔高熵合金,对切割好的难熔高熵合金进行清洗;S2,对清洗好的难熔高熵合金进行热镶嵌;S3,对热镶嵌后的难熔高熵合金进行研磨;S4,对研磨好的难熔高熵合金进行机械抛光;S5,对机械抛光后的难熔高熵合金进行化学机械抛光;S6,对化学机械抛光后的难熔高熵合金进行清洗、吹干,得到难熔高熵合金EBSD样品。本发明制备难熔高熵合金EBSD样品易操作、解析率高、抛光区域大且不需要昂贵的设备,保证了其EBSD样品的高解析率,实现了难熔高熵合金EBSD样品的高效、低成本制备。
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公开(公告)号:CN117567159A
公开(公告)日:2024-02-20
申请号:CN202311567820.4
申请日:2023-11-22
Applicant: 西北工业大学
IPC: C04B35/577 , C04B35/626 , C04B35/80
Abstract: 本发明公开了一种高效浸渗的陶瓷浆料及其制备方法,其中在制备过程中使用了粒径为300‑500nm的碳化硅陶瓷粉末,该碳化硅陶瓷粉末在浆料中,既不会因颗粒质量过大而在体系中快速地自发下沉,又不会因为比表面积过大在体系中迅速团聚发生沉降,同时利用粒子分散在水中时表面的静电斥力和分散剂大分子的空间位阻稳定效应,使得碳化硅粒子在较长的时间范围内在水中稳定的分散,得到低粘度高固相含量的浆料进行浸渗。
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