根际土培养装置及方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109392511B

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN201811398666.1

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本发明涉及植物根际土研究设备领域,具体地涉及根际土培养装置及方法。一种根际土培养装置,包括容纳土壤和植物根系的壳体,所述壳体的顶面开口,所述壳体的底面靠近侧面A处设置有供植物根系向下生长到培养液池中的缝隙;所述根际土培养装置还包括植物根系不能穿过的透水性薄膜,所述透水性薄膜设置在所述壳体内,将所述壳体的内部空间分隔为容纳土壤部分和容纳植物根系部分;同时公布了一种适配本设备的根际土培养方法。使用本装置及方法能够获得大量完整的根际土,同时获得的根际土能够表现植物根系对土壤的梯度影响。

    根际土培养装置及方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109392511A

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201811398666.1

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本发明涉及植物根际土研究设备领域,具体地涉及根际土培养装置及方法。一种根际土培养装置,包括容纳土壤和植物根系的壳体,所述壳体的顶面开口,所述壳体的底面靠近侧面A处设置有供植物根系向下生长到培养液池中的缝隙;所述根际土培养装置还包括植物根系不能穿过的透水性薄膜,所述透水性薄膜设置在所述壳体内,将所述壳体的内部空间分隔为容纳土壤部分和容纳植物根系部分;同时公布了一种适配本设备的根际土培养方法。使用本装置及方法能够获得大量完整的根际土,同时获得的根际土能够表现植物根系对土壤的梯度影响。

    根际土培养装置
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209057639U

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201821935458.6

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本实用新型涉及植物根际土研究设备领域,具体地涉及根际土培养装置。一种根际土培养装置,包括容纳土壤和植物根系的壳体,所述壳体的顶面开口,所述壳体的底面靠近侧面A处设置有供植物根系向下生长到培养液池中的缝隙;所述根际土培养装置还包括植物根系不能穿过的透水性薄膜,所述透水性薄膜设置在所述壳体内,将所述壳体的内部空间分隔为容纳土壤部分和容纳植物根系部分。使用本实用新型所提供的装置能够获得大量完整的根际土,同时获得的根际土能够表现植物根系对土壤的梯度影响。

Patent Agency Ranking