成像装置
    1.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204993595U

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201520743692.9

    申请日:2015-09-23

    Abstract: 本实用新型涉及一种成像装置。成像装置的各种实施例可包括配置为从场景捕获热图像数据的焦平面阵列。该实施例可进一步包括从焦平面阵列位移第一距离的传感器窗。该实施例还包括从焦平面阵列位移大于第一距离的第二距离的防护窗,其中第二距离使得防护窗上的损坏或落在防护窗上的碎片在热图像数据中不聚焦。本实用新型可以降低环境因素和/或其他因素导致的图像伪影。

    用于红外成像处理的系统

    公开(公告)号:CN205092906U

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201520744056.8

    申请日:2015-09-23

    Abstract: 本实用新型涉及一种用于红外成像处理的系统。该用于红外成像处理的系统包括成像器组件,该成像器组件包括:焦平面阵列,印刷电路板组件和处理电子器件,所述处理电子器件通过印刷电路板组件通信地连接到焦平面阵列,并且配置成接收和处理热图像数据。该系统还包括连接器,其通信地连接到成像器组件,并且被配置为与支持电子器件交互,所述支持电子器件配置成接收和附加地处理热红外图像数据。本实用新型可以允许具有配置为处理热图像数据的处理电子器件的成像器组件通信地连接到配置为附加地处理热红外图像数据的支持电子器件。

Patent Agency Ranking