一种微纳米潜影防伪器件及其制备方法与版辊

    公开(公告)号:CN114132062A

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202010917318.1

    申请日:2020-09-03

    Abstract: 本发明公开了一种微纳米潜影防伪器件及其制备方法与版辊,其包括:点阵式排列设计形成目标图案,制作与所述目标图案相匹配的版辊,所述版辊上具有凸起,所述凸起与所述目标图案相适应;于所述凸起的表面涂布一层屏蔽材料层,通过表面涂布有屏蔽材料层的版辊将该屏蔽材料层转印至待镀结构层上,于所述待镀结构层上形成转印屏蔽层,所述转印屏蔽层在所述待镀结构层上的形位分布与所述目标图案一致;于所述待镀结构层表面形成一层镀层,所述镀层在所述待镀结构层上的形位分布与所述转印屏蔽层互补。本发明所述的制备方法实现了包装材料的小尺寸、高精度的金属层图案化,具有较好的美观效果和防伪功能。

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