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公开(公告)号：CN206968219U
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201720498123.1
申请日：2017-05-05
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B41M5/03
Abstract: 本实用新型提供一种深纹路图案转移膜，包括PET基膜、直接设于所述PET基膜上的深纹路图案UV层及设于所述深纹路图案UV层上的镀层。本实用新型的深纹路图案转移膜，成本低、印刷效率高且制造的转移膜具有深纹路图案，可以实现较高的防伪设置及包装表现力。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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