电磁屏蔽膜及电磁屏蔽窗的制作方法

    公开(公告)号:CN106061218A

    公开(公告)日:2016-10-26

    申请号:CN201610412201.1

    申请日:2016-06-14

    CPC classification number: H05K9/00 H05K9/0086

    Abstract: 本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法,其包括以下步骤:1)在导电基板上涂布光刻胶,然后通过光刻工艺在导电基板上形成图形结构;2)通过选择性电沉积工艺在图形结构中生长金属层,形成金属图形结构;3)通过压印工艺将金属图形结构镶嵌至柔性基底材料内,形成电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种电磁屏蔽窗的制作方法。本发明具有高透明度、耐温性好的优点,可以满足光学窗对高屏蔽性能、高成像质量、耐温性高的电磁屏蔽膜的要求、柔性电子对电磁屏蔽薄膜弯折性能的需求以及复杂结构表面贴合对屏蔽膜超薄性的要求。

    纳米转印方法及纳米功能器件

    公开(公告)号:CN105374467B

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201510696751.6

    申请日:2015-10-23

    Abstract: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件,其中,纳米转印方法包括如下步骤:S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶;S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻,形成沟槽图形;S3.第一次电铸处理,形成图形电极;S4.第二次电铸处理,形成转印层;S5.通过卷对平转印模式,控制所述柔性金属基板,在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印,或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具,通过电沉积工艺,在转印模具的电极上形成纳米级材料层,并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。

    一种玻璃表面装饰薄膜

    公开(公告)号:CN205686055U

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201620328096.9

    申请日:2016-04-19

    Abstract: 本实用新型提出一种玻璃表面装饰薄膜,包括基材层,为透明膜层;微结构层,设置于所述基材层的一侧,其上设有均匀分布的微柱面透镜结构;粘接层,设置于所述基材层相对于所述微结构层的另一侧,为透明的具有粘接性的胶质层。本实用新型的玻璃表面装饰薄膜,通过在薄膜上形成微柱面透镜结构,从而在宏观效果上具有特殊的视觉效果,应用于产品表面,起到了装饰、品牌保护、成本控制、环保各方面的效果,更符合科技产品的发展需求。

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