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发明公开
基板处理设备审中-实审

公开(公告)号：CN119812057A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202510007660.0

申请日：2025-01-03

Applicant: 苏州大学 , 江苏芯梦半导体设备有限公司

Inventor： 王传洋 , 刘亚运 , 顾佳晨 , 王泳彬 , 张海珠

IPC: H01L21/67 , H01L21/66

Abstract: 本申请涉及一种基板处理设备，包括腔室具有第一空间与第二空间；第一转运装置位于第一空间内，并被配置将基板在第一空间和第二空间之间转移；清洗装置位于第二空间内，并被配置用于对基板进行清洗；检测装置位于第二空间内，并被配置用于检测清洗后的基板的颗粒数；气流供应装置位于第一空间与第二空间的上方，并用于提供自上而下的清洁气流；其中，第一空间包括相互连通的上部空间与下部空间，第二空间位于第一空间的一侧，且位于第一空间的下部空间的上方。该基板处理设备能够使得清洗后的基板在洁净度较高的第一空间的上部空间进行转运，大大降低清洗后的基板被污染的情况出现，进一步提高基板的检测准确性。

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