-
公开(公告)号：CN115304749B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202211057196.9
申请日：2022-08-31
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种含邻苯二酚侧基的荧光共轭高分子及其制备方法。将二乙炔基单体、含邻苯二酚基团和含苯基的二溴芳烃单体通过Sonogashira偶联反应合成邻苯二酚侧基被保护的共轭高分子前驱体，再经四丁基氟化铵脱除保护基团，得到一种含邻苯二酚侧基的荧光共轭高分子。本发明将含有已保护邻苯二酚基团的多巴胺和含苯基的苯乙胺通过胺基与羧基之间形成酰胺键的形式引入到共轭聚合物的侧基，可通过调整两种二溴芳烃单体的投料比以及利用苯基的相对化学惰性，实现对邻苯二酚基团含量的精确调控，从而改变其粘附性能，在化学、生物成像、痕迹检验等领域具有应用潜力。
-
公开(公告)号：CN115304749A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202211057196.9
申请日：2022-08-31
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种含邻苯二酚侧基的荧光共轭高分子及其制备方法。将二乙炔基单体、含邻苯二酚基团和含苯基的二溴芳烃单体通过Sonogashira偶联反应合成邻苯二酚侧基被保护的共轭高分子前驱体，再经四丁基氟化铵脱除保护基团，得到一种含邻苯二酚侧基的荧光共轭高分子。本发明将含有已保护邻苯二酚基团的多巴胺和含苯基的苯乙胺通过胺基与羧基之间形成酰胺键的形式引入到共轭聚合物的侧基，可通过调整两种二溴芳烃单体的投料比以及利用苯基的相对化学惰性，实现对邻苯二酚基团含量的精确调控，从而改变其粘附性能，在化学、生物成像、痕迹检验等领域具有应用潜力。
-
Search Results
2
records
(took 0.009 seconds)
