公开(公告)号：CN119677824A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202380059445.4

申请日：2023-08-08

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 牛尾典明 ,  城地悠仁 ,  栗原晃平

IPC: C09D129/04 ,  C09D5/20 ,  C09D125/18

Abstract: 一种污染物质除去方法，其是除去附着于对象表面的污染物质的方法，该方法具备：将包含以下的成分(A)～(C)且成分(B)相对于成分(A)及成分(B)的总量的质量比(B)/[(A)＋(B)]为0.6以上且0.95以下的自剥离膜形成用组合物涂布于附着有污染物质的对象表面而形成涂膜的工序、将该涂膜干燥的工序、以及通过与该干燥相伴的涂膜的自剥离从而将污染物质与涂膜一起除去的工序。(A)包含乙烯醇作为结构单元的聚合物，(B)磺化率为89％以上的聚苯乙烯磺酸或其盐，(C)挥发性溶剂。

公开(公告)号：CN116848204B

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202280014721.0

申请日：2022-02-14

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 城地悠仁 ,  牛尾典明

IPC: C09D201/00 ,  C09D133/00 ,  C09D129/04 ,  C09D125/08 ,  C09D101/02 ,  C09D7/65 ,  B08B7/00 ,  B08B3/08 ,  B05D7/24 ,  B05D3/12

Abstract: 本发明提供一种污染物质除去方法，是除去附着于对象表面的污染物质的方法，该方法具备：将包含成分(A)～(C)的自剥离膜形成用组合物涂布于附着有污染物质的对象表面而形成涂膜的工序、将该涂膜干燥的工序以及通过与该干燥相伴的涂膜的自剥离而将污染物质与涂膜一起除去的工序。(A)膜化成分；(B)挥发性溶剂；(C)硅酮化合物。

公开(公告)号：CN116848204A

公开(公告)日：2023-10-03

申请号：CN202280014721.0

申请日：2022-02-14

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 城地悠仁 ,  牛尾典明

IPC: C09D201/00

Abstract: 本发明提供一种污染物质除去方法，是除去附着于对象表面的污染物质的方法，该方法具备：将包含成分(A)～(C)的自剥离膜形成用组合物涂布于附着有污染物质的对象表面而形成涂膜的工序、将该涂膜干燥的工序以及通过与该干燥相伴的涂膜的自剥离而将污染物质与涂膜一起除去的工序。(A)膜化成分；(B)挥发性溶剂；(C)硅酮化合物。