公开(公告)号：CN101454361B

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200780019832.6

申请日：2007-06-27

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 糸井隆 ,  味村浩司 ,  山崎大辅 ,  宫本胜史 ,  鬼头哲治 ,  宫永清一 ,  石田浩彦

IPC: C08F212/36 ,  A61L9/01 ,  C08F8/44 ,  C08F226/06

CPC classification number: A61L9/01 ,  A61F13/8405 ,  A61F2013/8408 ,  A61L9/014 ,  A61L15/46 ,  A61L2300/102 ,  A61L2300/404 ,  C08F212/08 ,  C08F212/36 ,  C08F226/10 ,  D06M13/005 ,  D06M15/233 ,  D06M15/263 ,  D06M15/3562 ,  D06M23/08 ,  C08F4/34 ,  C08F226/06

Abstract: 本发明公开了一种除臭粒子，其BET比表面积为10m2/g以上，所述除臭粒子是通过将单体成分共聚而得到的，所述单体成分含有交联性乙烯基单体和具有杂芳环的乙烯基单体。还公开了进一步含有金属离子的除臭粒子。还公开了一种除臭粒子的制造方法，其具有下述工序：使用与单体成分的溶解度参数之间的差的绝对值为0～2.0的有机溶剂，对单体成分进行水包油型悬浮聚合或沉淀聚合，所述单体成分含有交联性乙烯基单体和具有杂芳环的乙烯基单体。还公开了进一步具有下述工序的除臭粒子的制造方法：使聚合得到的粒子和溶解有金属盐的溶剂接触，使金属离子担载在粒子上。

公开(公告)号：CN101454361A

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：CN200780019832.6

申请日：2007-06-27

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 糸井隆 ,  味村浩司 ,  山崎大辅 ,  宫本胜史 ,  鬼头哲治 ,  宫永清一 ,  石田浩彦

IPC: C08F212/36 ,  A61L9/01 ,  C08F8/44 ,  C08F226/06

CPC classification number: A61L9/01 ,  A61F13/8405 ,  A61F2013/8408 ,  A61L9/014 ,  A61L15/46 ,  A61L2300/102 ,  A61L2300/404 ,  C08F212/08 ,  C08F212/36 ,  C08F226/10 ,  D06M13/005 ,  D06M15/233 ,  D06M15/263 ,  D06M15/3562 ,  D06M23/08 ,  C08F4/34 ,  C08F226/06

Abstract: 本发明公开了一种除臭粒子，其BET比表面积为10m2/g以上，所述除臭粒子是通过将单体成分共聚而得到的，所述单体成分含有交联性乙烯基单体和具有杂芳环的乙烯基单体。还公开了进一步含有金属离子的除臭粒子。还公开了一种除臭粒子的制造方法，其具有下述工序：使用与单体成分的溶解度参数之间的差的绝对值为0～2.0的有机溶剂，对单体成分进行水包油型悬浮聚合或沉淀聚合，所述单体成分含有交联性乙烯基单体和具有杂芳环的乙烯基单体。还公开了进一步具有下述工序的除臭粒子的制造方法：使聚合得到的粒子和溶解有金属盐的溶剂接触，使金属离子担载在粒子上。