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公开(公告)号：CN102157370A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110066173.X
申请日：2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: H01L21/306 , C25B1/30 , C25B1/22
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号：CN101307460B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200810009754.8
申请日：2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: C25B1/30 , C25B1/22 , B08B3/08 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号：CN101307460A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200810009754.8
申请日：2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社 , 株式会社东芝
IPC: C25B1/30 , C25B1/22 , B08B3/08 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101542020B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200880000338.X
申请日：2008-01-11
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 株式会社东芝 , 氯工程株式会社
IPC: C25B1/28 , H01L21/304
CPC classification number: C25B1/285 , H01L21/67051
Abstract: 本发明的硫酸的电解装置具备：被隔膜(4)分隔形成设有阴极(5a)的阴极室(5)和设有阳极(6a)的阳极室(6)的电解槽(1)；贮存硫酸的硫酸罐；连接硫酸罐和阴极室的流入口的给液管(14)；连接阴极室的流出口和阳极室的流入口的连接管(17)；设置在给液管上且将硫酸罐的硫酸通过给液管供给到阴极室中的第1供给泵(13)；以及与阳极室的流出口连接且将在阳极室中通过电解而生成的含有氧化性的化学种的溶液供给到贮液槽中的排出管(18)。
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公开(公告)号：CN101542020A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200880000338.X
申请日：2008-01-11
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 株式会社东芝 , 氯工程株式会社
IPC: C25B1/28 , H01L21/304
CPC classification number: C25B1/285 , H01L21/67051
Abstract: 本发明的硫酸的电解装置具备：被隔膜(4)分隔形成设有阴极(5a)的阴极室(5)和设有阳极(6a)的阳极室(6)的电解槽(1)；贮存硫酸的硫酸罐；连接硫酸罐和阴极室的流入口的给液管(14)；连接阴极室的流出口和阳极室的流入口的连接管(17)；设置在给液管上且将硫酸罐的硫酸通过给液管供给到阴极室中的第1供给泵(13)；以及与阳极室的流出口连接且将在阳极室中通过电解而生成的含有氧化性的化学种的溶液供给到贮液槽中的排出管(18)。
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公开(公告)号：CN102157370B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201110066173.X
申请日：2008-02-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 培尔梅烈克电极股份有限公司 , 株式会社东芝
IPC: H01L21/306 , C25B1/30 , C25B1/22
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。
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公开(公告)号：CN101271978B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200810088204.X
申请日：2008-03-21
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01M8/1025 , C08G65/405 , C08G65/4056 , C08G65/4087 , C08J5/2256 , C08J2371/12 , H01M4/8605 , H01M8/0289 , H01M8/1011 , H01M2300/0082 , Y02E60/523 , Y02P70/56
Abstract: 本发明提供一种能够抑制液体燃料的透过、提高对液体燃料的耐久性、且容易合成的高分子电解质材料以及高分子电解质材料的制造方法、高分子电解质部件、燃料电池及燃料电池的制造方法。根据本发明的一个方式，能够提供一种高分子电解质材料，其特征在于含有苯环、醚、羰基作为主链、且苯环的一部分被磺化。
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公开(公告)号：CN101271978A
公开(公告)日：2008-09-24
申请号：CN200810088204.X
申请日：2008-03-21
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01M8/1025 , C08G65/405 , C08G65/4056 , C08G65/4087 , C08J5/2256 , C08J2371/12 , H01M4/8605 , H01M8/0289 , H01M8/1011 , H01M2300/0082 , Y02E60/523 , Y02P70/56
Abstract: 本发明提供一种能够抑制液体燃料的透过、提高对液体燃料的耐久性、且容易合成的高分子电解质材料以及高分子电解质材料的制造方法、高分子电解质部件、燃料电池及燃料电池的制造方法。根据本发明的一个方式，能够提供一种高分子电解质材料，其特征在于含有苯环、醚、羰基作为主链、且苯环的一部分被磺化。
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