Saved successfully
Save failed
Saved Successfully
Save Failed
公开(公告)号：CN111406195B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN201880076443.5
申请日：2018-09-26
Applicant: 美蓓亚三美株式会社
Inventor： 浅川寿昭 , 丹羽真一 , 相泽祐汰 , 北村厚
IPC: G01B7/16
Abstract: 本应变片包括：基材，具有可挠性；以及电阻体，在所述基材上，由包含铬和镍中的至少一者的材料形成，其中，所述基材的膨胀系数在7ppm/K～20ppm/K的范围内。
公开(公告)号：CN111417829A
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201880076750.3
Inventor： 浅川寿昭 , 相泽祐汰 , 户田慎也 , 高田真太郎 , 丹羽真一
Abstract: 本应变片包括：基材，具有可挠性；功能层，在所述基材的一个表面上，由金属、合金、或金属的化合物形成；以及电阻体，在所述功能层的一个表面上，由包含铬和镍中的至少一者的材料形成。
公开(公告)号：CN119604738A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202380056014.2
申请日：2023-08-01
Inventor： 户田慎也 , 浅川寿昭 , 北村厚 , 丹羽真一
Abstract: 本应变计具有基材和在所述基材上形成的电阻体，所述电阻体由以Cr为主成分的材料形成，所述电阻体的线宽W和膜厚T满足下式(1)的关系，以使横向敏感度比为70％以下且灵敏系数为5以上。w≤0.0177t2+0.1521t+2.9541…(1)，这里，式(1)中，w＝logW、t＝logT。
公开(公告)号：CN119604737A
申请号：CN202380055986.X
申请日：2023-07-28
Abstract: 本应变计具有基材和在所述基材上形成的电阻体，所述电阻体由以Cr为主成分的材料形成，所述电阻体的膜厚为200nm以上，以使横向敏感度比为70％以下且灵敏系数为5以上。
公开(公告)号：CN119487354A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202380052002.2
申请日：2023-07-05
Abstract: 本应变计具有基材和在所述基材上形成的电阻体，所述电阻体由以Cr为主成分的材料形成，所述电阻体的线宽为70μm以下，以使横向敏感度比为70％以下，且灵敏系数为5以上。
公开(公告)号：CN111542727B
申请号：CN201880084755.0
申请日：2018-10-30
Inventor： 浅川寿昭 , 丹羽真一 , 高田真太郎
IPC: G01B7/16 , C23C14/06
Abstract: 本应变片具有：基材，具有可挠性；电阻体，在所述基材上由包含铬和镍中的至少一者的材料形成；及防氧化层，形成在非氧化面上，该非氧化面构成所述电阻体的上表面。
公开(公告)号：CN111406195A
公开(公告)日：2020-07-10
公开(公告)号：CN116608762A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310346190.1
公开(公告)号：CN111417829B
公开(公告)日：2023-04-25
公开(公告)号：CN111542727A
公开(公告)日：2020-08-14
