化学机械抛光方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105215837B

    公开(公告)日:2018-10-19

    申请号:CN201510329335.2

    申请日:2015-06-15

    Abstract: 本发明提供一种化学机械抛光衬底的方法,其包含:提供具有压板的抛光机;提供衬底,其中所述衬底具有暴露的氧化硅表面;提供化学机械抛光垫,其包含:聚氨基甲酸酯抛光层;其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值;提供研磨剂浆料,其中所述研磨剂浆料包含水和二氧化铈研磨剂;在所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面处形成动态接触;以及将所述研磨剂浆料分配到所述化学机械抛光垫的所述聚氨基甲酸酯抛光层的所述抛光表面上位于或接近所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面;且抛光所述衬底。

    硅酮泡沫组合物
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117677653A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202280048875.1

    申请日:2022-07-18

    Abstract: 本公开涉及用于形成发泡硅酮弹性体的硅酮泡沫组合物、由这些硅酮泡沫组合物形成的相应发泡硅酮弹性体以及制备此类组合物和发泡硅酮弹性体的方法。硅酮橡胶泡沫组合物包含:(a)一种或多种选自一种或多种硅酮树脂和/或硅酮树脂中间体的每分子平均具有至少两个与硅键合的烷氧基基团的有机硅化合物;(b)路易斯酸催化剂;(c)一种或多种表面活性剂;以及(d)一种或多种每分子平均具有至少两个、另选地至少三个与硅键合的氢基团的有机聚硅氧烷聚合物。

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