-
公开(公告)号:CN105215837B
公开(公告)日:2018-10-19
申请号:CN201510329335.2
申请日:2015-06-15
Applicant: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
Abstract: 本发明提供一种化学机械抛光衬底的方法,其包含:提供具有压板的抛光机;提供衬底,其中所述衬底具有暴露的氧化硅表面;提供化学机械抛光垫,其包含:聚氨基甲酸酯抛光层;其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值;提供研磨剂浆料,其中所述研磨剂浆料包含水和二氧化铈研磨剂;在所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面处形成动态接触;以及将所述研磨剂浆料分配到所述化学机械抛光垫的所述聚氨基甲酸酯抛光层的所述抛光表面上位于或接近所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面;且抛光所述衬底。
-
公开(公告)号:CN105215837A
公开(公告)日:2016-01-06
申请号:CN201510329335.2
申请日:2015-06-15
Applicant: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
CPC classification number: B24B37/205 , B24B37/013 , B24B53/017 , H01L21/31053 , B24B37/044 , B24B37/24 , H01L21/02013
Abstract: 本发明提供一种化学机械抛光衬底的方法,其包含:提供具有压板的抛光机;提供衬底,其中所述衬底具有暴露的氧化硅表面;提供化学机械抛光垫,其包含:聚氨基甲酸酯抛光层;其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值;提供研磨剂浆料,其中所述研磨剂浆料包含水和二氧化铈研磨剂;在所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面处形成动态接触;以及将所述研磨剂浆料分配到所述化学机械抛光垫的所述聚氨基甲酸酯抛光层的所述抛光表面上位于或接近所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面;且抛光所述衬底。
-
公开(公告)号:CN105313003A
公开(公告)日:2016-02-10
申请号:CN201510329884.X
申请日:2015-06-15
Applicant: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
CPC classification number: B24B37/24 , B24B37/205 , G02B1/12 , H01L21/31053
Abstract: 本发明提供一种化学机械抛光垫,其含有:具有组合物和抛光表面的聚氨基甲酸酯抛光层;其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值;其中所述抛光表面被调适用于抛光衬底;且其中所述抛光表面展现≥80%的调整耐受性。
-
公开(公告)号:CN112689647A
公开(公告)日:2021-04-20
申请号:CN201980059744.1
申请日:2019-09-17
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
Abstract: 环氧丁烷和环氧乙烷的含羟基共聚物可用于制备聚氨酯,所述环氧丁烷和环氧乙烷的含羟基共聚物的羟基当量为至少150,平均每分子1.8至6个羟基,其中至少70%的所述羟基是伯羟基,并且按所述共聚物的重量计,氧化乙烯含量不大于10重量%。这些多元醇的特征在于高反应性和快速固化时间。使用这些多元醇制得的聚氨酯具有优异的机械性质并且是高度疏水的。
-
公开(公告)号:CN115135705A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202180014656.7
申请日:2021-02-03
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司 , 美国陶氏有机硅公司
Inventor: A·B·沙 , D·A·布鲁纳 , J·J·亨宁 , N·A·保罗利克 , M·F·索南夏因 , J·Q·克拉姆托恩 , M·费希尔 , G·贝克 , C·温迪特 , D·沙娃 , E·J·胡可坎恩 , D·R·斯莱德
Abstract: 本公开涉及制造发泡有机硅弹性体的连续方法和用于在所述方法中形成该发泡有机硅弹性体的组合物。所使用的组合物包含:i)有机聚硅氧烷,该有机聚硅氧烷每分子具有至少两个硅键合的不饱和基团;ii)有机氢硅氧烷,该有机氢硅氧烷每分子具有至少两个硅键合的氢原子;iii)氢化硅烷化催化剂;以及iv)物理液体发泡剂。发泡有机硅弹性体由此类组合物制备。
-
公开(公告)号:CN112384556A
公开(公告)日:2021-02-19
申请号:CN201980044943.5
申请日:2019-07-30
Applicant: 美国陶氏有机硅公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
Abstract: 公开了一种用于形成发泡硅酮弹性体的组合物。所述组合物包含:A)每分子具有至少两个与硅键合的烯系不饱和基团的有机聚硅氧烷;B)每分子具有至少两个与硅键合的氢原子的有机氢硅氧烷;C)硅氢化催化剂;D)化学发泡剂;以及E)物理发泡剂。所述硅氢化催化剂C)以催化有效量存在。所述化学发泡剂D)具有至少一个羟基(OH)基团,并且以提供OH含量>0且
-
-
公开(公告)号:CN104685046A
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:CN201280075568.9
申请日:2012-10-11
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
CPC classification number: C11D3/18 , C11D3/187 , C11D3/188 , C11D3/2093 , C11D3/24 , C11D3/382 , C11D3/43 , C11D3/50 , C11D7/266 , C11D7/5004 , C11D7/5018 , C11D7/5022 , C11D7/5027
Abstract: 本发明提供了水基清洗制剂,其包含一种或多种在水中具有低的溶解度的有机溶剂和用于偶联所述有机溶剂与水的亚烷基二醇二乙酰丙酸酯。
-
公开(公告)号:CN117677653A
公开(公告)日:2024-03-08
申请号:CN202280048875.1
申请日:2022-07-18
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司 , 美国陶氏有机硅公司
Abstract: 本公开涉及用于形成发泡硅酮弹性体的硅酮泡沫组合物、由这些硅酮泡沫组合物形成的相应发泡硅酮弹性体以及制备此类组合物和发泡硅酮弹性体的方法。硅酮橡胶泡沫组合物包含:(a)一种或多种选自一种或多种硅酮树脂和/或硅酮树脂中间体的每分子平均具有至少两个与硅键合的烷氧基基团的有机硅化合物;(b)路易斯酸催化剂;(c)一种或多种表面活性剂;以及(d)一种或多种每分子平均具有至少两个、另选地至少三个与硅键合的氢基团的有机聚硅氧烷聚合物。
-
公开(公告)号:CN116171304A
公开(公告)日:2023-05-26
申请号:CN202180059207.4
申请日:2021-06-23
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
IPC: C08K5/01
Abstract: 本发明公开了一种形成交联组合物的方法,所述方法包括热处理包含以下组分的组合物:a)烯烃/硅烷互聚物,b)固化催化剂和c)多乙烯基化合物。本发明公开了一种组合物,所述组合物包含以下组分:a)烯烃/硅烷互聚物,b)固化催化剂和c)多乙烯基化合物。
-
-
-
-
-
-
-
-
-