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公开(公告)号：CN109727840A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201811277582.2
申请日：2018-10-30
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 公开了一种基板处理装置。基板处理装置包括：腔室，在其内部具有处理空间；支承单元，其配置为在处理空间中支承基板；气体供应单元，其配置为向处理空间中供应气体；以及等离子体产生单元，其配置为从气体产生等离子体，其中，该支承单元包括：静电卡盘，所述静电卡盘包括具有吸附基板的支承表面的上主体以及从上主体延伸至下侧的下主体，其中，下主体具有从上主体侧向延伸的延伸部；聚焦环，其设置在所述静电卡盘的延伸部上；以及金属环，其设置在所述静电卡盘的所述上主体与所述聚焦环之间并配置为控制所述基板的末端边缘中的等离子体。
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