成像装置及其设置方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101388963B

    公开(公告)日:2010-12-22

    申请号:CN200810169360.9

    申请日:2005-03-01

    CPC classification number: H04N5/2254

    Abstract: 本发明涉及一种CMOS传感器的光学系统,该系统包括使出射光瞳距在成像平面的中心区域短而在成像平面的外围区域长的一非球面透镜。非球面透镜起到使得出射光瞳距从成像平面的中心区域朝着成像平面的外围区域单调增大。另外,根据出射光瞳距d进行光瞳校正,所述出射光瞳距d满足(d1+d2)/2

    成像装置及其设置方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101388963A

    公开(公告)日:2009-03-18

    申请号:CN200810169360.9

    申请日:2005-03-01

    CPC classification number: H04N5/2254

    Abstract: 本发明涉及一种CMOS传感器的光学系统,该系统包括使出射光瞳距在成像平面的中心区域短而在成像平面的外围区域长的一非球面透镜。非球面透镜起到使得出射光瞳距从成像平面的中心区域朝着成像平面的外围区域单调增大。另外,根据出射光瞳距d进行光瞳校正,所述出射光瞳距d满足(d1+d2)/2<d<d2,该式中d1是成像平面中心处的出射光瞳距,d2是成像平面边缘处的出射光瞳距。

    成像装置及其设置方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100481471C

    公开(公告)日:2009-04-22

    申请号:CN200510071647.4

    申请日:2005-03-01

    CPC classification number: H04N5/2254

    Abstract: 本发明涉及一种CMOS传感器的光学系统,该系统包括使出射光瞳距在成像平面的中心区域短而在成像平面的外围区域长的一非球面透镜。非球面透镜起到使得出射光瞳距从成像平面的中心区域朝着成像平面的外围区域单调增大。另外,根据出射光瞳距d进行光瞳校正,所述出射光瞳距d满足(d1+d2)/2<d<d2,该式中d1是成像平面中心处的出射光瞳距,d2是成像平面边缘处的出射光瞳距。

    成像装置及其设置方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1758439A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:CN200510071647.4

    申请日:2005-03-01

    CPC classification number: H04N5/2254

    Abstract: 本发明涉及一种CMOS传感器的光学系统,该系统包括使出射光瞳距在成像平面的中心区域短而在成像平面的外围区域长的一非球面透镜。非球面透镜起到使得出射光瞳距从成像平面的中心区域朝着成像平面的外围区域单调增大。另外,根据出射光瞳距d进行光瞳校正,所述出射光瞳距d满足(d1+d2)/2<d<d2,该式中d1是成像平面中心处的出射光瞳距,d2是成像平面边缘处的出射光瞳距。

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