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公开(公告)号:CN100522619C
公开(公告)日:2009-08-05
申请号:CN200610106105.0
申请日:2006-06-02
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41J2/14024 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J29/02
Abstract: 一种喷液头,包括:布置在一半导体基板上的能量产生元件,淀积在半导体基板上用于在能量产生元件周围形成液体腔室的栅隔层,以及接合到栅隔层上并具有在与能量产生元件相对位置处形成的喷嘴的喷嘴片,其中,喷液头通过能量产生元件以液滴形式从喷嘴喷出容纳在液体腔室中的液体,并且栅隔层设置有多个凹部,每个凹部都具有独立轮廓且布置在与所述喷嘴片接合的接合区域上的远离栅隔层边缘的范围内。
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公开(公告)号:CN1880079A
公开(公告)日:2006-12-20
申请号:CN200610106105.0
申请日:2006-06-02
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B41J2/14024 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J29/02
Abstract: 一种喷液头,包括:布置在一半导体基板上的能量产生元件,淀积在半导体基板上用于在能量产生元件周围形成液体腔室的栅隔层,以及接合到栅隔层上并具有在与能量产生元件相对位置处形成的喷嘴的喷嘴片,其中,喷液头通过能量产生元件以液滴形式从喷嘴喷出容纳在液体腔室中的液体,并且栅隔层设置有多个凹部,每个凹部都具有独立轮廓且布置在与所述喷嘴片接合的接合区域上的远离栅隔层边缘的范围内。
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