公开(公告)号：CN102465093A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201110359959.0

申请日：2011-11-14

Applicant: 索尼公司

Inventor： 小岛健介 ,  潟山浩 ,  篠崎明 ,  户田显 ,  加藤义明 ,  渡边英俊 ,  世取山翼 ,  梶原淳志 ,  渡边俊夫 ,  宫地政浩 ,  穴口嵩记

IPC: C12M1/38 ,  C12M1/00 ,  C12Q3/00 ,  C12Q1/68

CPC classification number: B01L7/52 ,  B01L3/5027 ,  B01L2200/147 ,  B01L2300/0654 ,  B01L2300/0829 ,  B01L2300/0887

Abstract: 本文公开了一种反应处理装置与反应处理方法，该反应处理装置包括温度控制部，该温度控制部包括：第一温度控制部，布置在反应区域组的外周边缘部位处；以及平面型第二温度控制部。其中，该第一温度控制部和该第二温度控制部彼此相对地布置，反应区域组位于其间。