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公开(公告)号:CN101452159A
公开(公告)日:2009-06-10
申请号:CN200810183317.8
申请日:2008-12-02
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 后藤任
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/13394 , G02F2001/13415
Abstract: 本发明提供一种液晶装置的制造方法,能防止由于液晶的流动,间隔粒子从规定的配置区域移动,能提高显示质量。其特征在于,具有:在一对衬底的任意一个衬底的间隔粒子配置区域(SA)配置规定一对衬底的间隔的间隔粒子(41)的间隔粒子配置工序;对一对衬底的任意一个衬底的图像显示区域,将液晶(LC)作为液滴喷出从而涂敷时,围绕间隔粒子配置区域(SA)地涂敷液晶(LC),形成包含间隔粒子配置区域(SA)的没有涂敷液晶(LC)的液晶非涂敷区域(NA)的液晶涂敷工序;使一对衬底对置,通过密封件粘贴的衬底接合工序。
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公开(公告)号:CN1977214A
公开(公告)日:2007-06-06
申请号:CN200680000386.X
申请日:2006-05-15
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02F1/1341 , G02F2001/13415
Abstract: 在形成于玻璃晶片上的多个元件基板的各个周缘上,形成包含间隔材料的密封部。线宽测定部对密封部的线宽进行测定。液滴喷射部将对应线宽的量的液晶液滴分别喷射到被密封部包围的液晶封入部。因此,可以使元件基板和滤色器基板的间隔保持均一。
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公开(公告)号:CN1739970A
公开(公告)日:2006-03-01
申请号:CN200510087947.1
申请日:2005-07-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 后藤任
IPC: B41J2/21
CPC classification number: B41J2/04595 , B41J2/0458 , B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2202/09 , G02B5/201
Abstract: 本发明披露了一种将液体材料以小滴形式供给基底上的方法,所述方法包括以下步骤:准备基底10A;在基底10A上形成多个分部18R、18G和18B,所述多个分部18R、18G和18B的每个都适于成为色素;以及在使基底10A关于小滴喷射装置103相互移动期间,经由小滴喷射装置103喷射一个或多个小滴,所述小滴喷射装置103具有一个或多个喷嘴118,所述液体材料通过所述喷嘴118供给所述多个分部18R、18G和18B的每个上。在喷射步骤中,将第一小滴通过所述小滴喷射装置103的喷嘴118喷射到基底10A的预定分部18R、18G和18B上,然后在已经落在预定分部18R、18G和18B上的第一小滴变干之前将一个或多个后续小滴喷射到预定分部18R、18G和18B上,并且一个或多个后续小滴中每个的总量小于第一小滴的总量。
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公开(公告)号:CN101446708A
公开(公告)日:2009-06-03
申请号:CN200810177438.1
申请日:2008-11-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1337 , G02F1/1333 , G02F1/13363
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/13363 , G02F2001/133565 , G02F2413/09
Abstract: 提供一种减少相位差膜的外周部的漏光的图像质量好的半透射反射型的液晶装置及其制造方法。本适用例的液晶装置(100)包括:作为一对基板的元件基板(10)及相对基板(20),被元件基板(10)和相对基板(20)夹持的液晶层(50),在1个子像素SG内具有反射显示区R和透射显示区T的多个像素,以及设置在反射显示区R中的相位差膜(26);在相对基板(20)的液晶层(50)侧设置区分相位差膜(26)的遮光性的隔壁部(61)。
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公开(公告)号:CN100380208C
公开(公告)日:2008-04-09
申请号:CN200510066858.9
申请日:2005-04-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 后藤任
IPC: G02F1/1337 , G02F1/133 , G09F9/35
CPC classification number: G02F1/1337 , Y10T428/10
Abstract: 本发明提供一种改变基板上的每个规定区域上的取向膜材料的涂敷量、形成均匀取向膜的液晶显示装置的制造方法以及制造装置。将通过根据来自控制装置(14)的信号由驱动装置(16)驱动的传送带BC运送的基板、例如形成了段电极的基板在洗净装置(4)中洗净。接着,在通过传送带BC运送的基板上,在喷吐装置(6)中在每个规定区域中涂敷不同粘度的取向膜材料。接着,在干燥装置(8)中,进行涂敷于基板上的取向膜材料的暂时干燥,在烘焙装置(10)中烘焙基板、形成取向膜。然后,在研磨装置(12)中,在取向膜上实施研磨处理。
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公开(公告)号:CN1693958A
公开(公告)日:2005-11-09
申请号:CN200510068520.7
申请日:2005-04-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 后藤任
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133711 , G02F1/133784 , G02F2201/48
Abstract: 本发明提供一种改变基板上的每个规定区域上的取向膜材料的涂敷量、形成均匀取向膜的液晶显示装置的制造方法以及制造装置。将通过根据来自控制装置(14)的信号由驱动装置(16)驱动的传送带BC运送的基板、例如形成了段电极的基板在洗净装置(4)中洗净。接着,在通过传送带BC运送的基板上,在喷吐装置(6)中在每个规定区域中涂敷不同量的取向膜材料。接着,在干燥装置(8)中,进行涂敷于基板上的取向膜材料的暂时干燥,在烘焙装置(10)中烘焙基板、形成取向膜。然后,在研磨装置(12)中,在取向膜上实施研磨处理。
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公开(公告)号:CN100522615C
公开(公告)日:2009-08-05
申请号:CN200510087947.1
申请日:2005-07-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 后藤任
CPC classification number: B41J2/04595 , B41J2/0458 , B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2202/09 , G02B5/201
Abstract: 本发明披露了一种将液体材料以小滴形式供给基底上的方法,所述方法包括以下步骤:准备基底;在基底上形成多个分部,所述多个分部的每个都适于成为颜色元素;以及在使基底相对于小滴喷射装置相互移动期间,经由小滴喷射装置喷射一个或多个小滴,所述小滴喷射装置具有一个或多个喷嘴,所述液体材料通过所述喷嘴供给所述多个分部的每个上。在喷射步骤中,将第一小滴通过所述小滴喷射装置的喷嘴喷射到基底的预定分部上,然后在已经落在预定分部上的第一小滴变干之前将一个或多个后续小滴喷射到预定分部上,并且一个或多个后续小滴中每个的总量小于第一小滴的总量。
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公开(公告)号:CN100386672C
公开(公告)日:2008-05-07
申请号:CN200510068520.7
申请日:2005-04-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 后藤任
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133711 , G02F1/133784 , G02F2201/48
Abstract: 本发明提供一种改变基板上的每个规定区域上的取向膜材料的涂敷量、形成均匀取向膜的液晶显示装置的制造方法以及制造装置。将通过根据来自控制装置(14)的信号由驱动装置(16)驱动的传送带BC运送的基板、例如形成了段电极的基板在洗净装置(4)中洗净。接着,在通过传送带BC运送的基板上,在喷吐装置(6)中在每个规定区域中涂敷不同量的取向膜材料。接着,在干燥装置(8)中,进行涂敷于基板上的取向膜材料的暂时干燥,在烘焙装置(10)中烘焙基板、形成取向膜。然后,在研磨装置(12)中,在取向膜上实施研磨处理。
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公开(公告)号:CN1693971A
公开(公告)日:2005-11-09
申请号:CN200510066858.9
申请日:2005-04-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 后藤任
IPC: G02F1/1337 , G02F1/133 , G09F9/35
CPC classification number: G02F1/1337 , Y10T428/10
Abstract: 本发明提供一种改变基板上的每个规定区域上的取向膜材料的涂敷量、形成均匀取向膜的液晶显示装置的制造方法以及制造装置。将通过根据来自控制装置(14)的信号由驱动装置(16)驱动的传送带BC运送的基板、例如形成了段电极的基板在洗净装置(4)中洗净。接着,在通过传送带BC运送的基板上,在喷吐装置(6)中在每个规定区域中涂敷不同粘度的取向膜材料。接着,在干燥装置(8)中,进行涂敷于基板上的取向膜材料的暂时干燥,在烘焙装置(10)中烘焙基板、形成取向膜。然后,在研磨装置(12)中,在取向膜上实施研磨处理。
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