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公开(公告)号：CN110963351B
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN201910911365.2
申请日：2019-09-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 中泽笃史
IPC: B65H31/30
Abstract: 本申请公开了一种介质排出装置、介质处理装置以及记录系统。介质排出装置，具备：第一托盘，接收并载置介质；第二托盘，接收从第一托盘排出的介质；排出机构，将介质从第一托盘朝向第二托盘排出；以及第一卷曲抑制部件，位于介质的排出方向的后端区域的上方且维持姿态并追随后端区域的移动而移动，直至被载置于第一托盘的介质通过排出机构从第一托盘排出至第二托盘而被载置于该第二托盘为止。
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公开(公告)号：CN116714381A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310205801.0
申请日：2023-03-03
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本申请提供一种介质输送装置以及记录装置，便于使用。将与装卸方向正交的方向设为第一方向，将与装卸方向和第一方向正交的方向设为第二方向，进给盒(1600)具备抵接部(300)，该抵接部(300)与辊分离机构部(210)抵接，并具有沿着包括装卸方向的分量及第一方向的分量的直线而倾斜的第一倾斜面(301)，辊分离机构部(210)具备被抵接部(200)，该被抵接部(200)与抵接部(300)抵接，并具有沿着包括装卸方向的分量及第二方向的分量的直线而倾斜的第二倾斜面(201)。
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公开(公告)号：CN113387223B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202110758562.2
申请日：2019-09-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 中泽笃史
IPC: B65H31/30
Abstract: 本申请公开了一种介质排出装置、介质处理装置以及记录系统。介质排出装置，具备：第一托盘，接收并载置介质；第二托盘，接收从第一托盘排出的介质；排出机构，将介质从第一托盘朝向第二托盘排出；以及第一卷曲抑制部件，位于介质的排出方向的后端区域的上方且维持姿态并追随后端区域的移动而移动，直至被载置于第一托盘的介质通过排出机构从第一托盘排出至第二托盘而被载置于该第二托盘为止。
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公开(公告)号：CN112623844B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202011040534.9
申请日：2020-09-28
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B65H31/36
Abstract: 本发明提供介质输送装置、后处理装置以及记录装置，所述介质输送装置具有下侧引导构件、处理托盘、送入部以及切口部。下侧引导构件支撑被输送的介质并将其向处理托盘引导。处理托盘设置有对齐构件，积蓄多个介质。送入部具有桨叶构件，所述桨叶构件以顶端部的旋转轨迹与下侧引导构件相交的方式在处理托盘与下侧引导构件之间配置有旋转中心，将介质向对齐构件送入。在下侧引导构件形成切口部，输送方向的上游侧的端部形成于比下侧引导构件的旋转轨迹靠内侧的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113387223A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202110758562.2
申请日：2019-09-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 中泽笃史
IPC: B65H31/30
Abstract: 本申请公开了一种介质排出装置、介质处理装置以及记录系统。介质排出装置，具备：第一托盘，接收并载置介质；第二托盘，接收从第一托盘排出的介质；排出机构，将介质从第一托盘朝向第二托盘排出；以及第一卷曲抑制部件，位于介质的排出方向的后端区域的上方且维持姿态并追随后端区域的移动而移动，直至被载置于第一托盘的介质通过排出机构从第一托盘排出至第二托盘而被载置于该第二托盘为止。
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公开(公告)号：CN112623844A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN202011040534.9
申请日：2020-09-28
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B65H31/36
Abstract: 本发明提供介质输送装置、后处理装置以及记录装置，所述介质输送装置具有下侧引导构件、处理托盘、送入部以及切口部。下侧引导构件支撑被输送的介质并将其向处理托盘引导。处理托盘设置有对齐构件，积蓄多个介质。送入部具有桨叶构件，所述桨叶构件以顶端部的旋转轨迹与下侧引导构件相交的方式在处理托盘与下侧引导构件之间配置有旋转中心，将介质向对齐构件送入。在下侧引导构件形成切口部，输送方向的上游侧的端部形成于比下侧引导构件的旋转轨迹靠内侧的位置。
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公开(公告)号：CN110963351A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201910911365.2
申请日：2019-09-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 中泽笃史
IPC: B65H31/30
Abstract: 本申请公开了一种介质排出装置、介质处理装置以及记录系统。介质排出装置，具备：第一托盘，接收并载置介质；第二托盘，接收从第一托盘排出的介质；排出机构，将介质从第一托盘朝向第二托盘排出；以及第一卷曲抑制部件，位于介质的排出方向的后端区域的上方且维持姿态并追随后端区域的移动而移动，直至被载置于第一托盘的介质通过排出机构从第一托盘排出至第二托盘而被载置于该第二托盘为止。
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公开(公告)号：CN106004053B
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201610166127.X
申请日：2016-03-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/16535 , B41J2/16505 , B41J2/16508 , B41J2/16511 , B41J2/1652 , B41J2/16526 , B41J2/16538 , B41J2/16547 , B41J2/16585 , B41J2002/16502
Abstract: 本发明涉及记录装置。更可靠地防止记录用纸与存在于喷嘴面的周缘的墨液积留的接触。记录装置具备：在喷嘴面具备向被记录介质排出液体的液体排出喷嘴的记录头；擦拭所述喷嘴面的擦拭器；以及位于被记录介质与所述喷嘴面的边缘之间、覆盖所述喷嘴面的周缘的盖。记录装置具备接受从记录头排出的液体的接受部，所述接受部构成为能够在与所述记录头对置的接受位置和从所述接受位置避让的避让位置之间移动，所述盖被设置成能够切换覆盖所述喷嘴面的周缘的第1状态和从所述周缘离开的第2状态，所述接受部的所述接受位置位于所述盖的所述第1状态与所述第2状态之间的移动轨迹上，在所述接受部的动作中，所述盖采取所述第2状态。
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公开(公告)号：CN106004053A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610166127.X
申请日：2016-03-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/16535 , B41J2/16505 , B41J2/16508 , B41J2/16511 , B41J2/1652 , B41J2/16526 , B41J2/16538 , B41J2/16547 , B41J2/16585 , B41J2002/16502 , B41J11/0005
Abstract: 本发明涉及记录装置。更可靠地防止记录用纸与存在于喷嘴面的周缘的墨液积留的接触。记录装置具备：在喷嘴面具备向被记录介质排出液体的液体排出喷嘴的记录头；擦拭所述喷嘴面的擦拭器；以及位于被记录介质与所述喷嘴面的边缘之间、覆盖所述喷嘴面的周缘的盖。记录装置具备接受从记录头排出的液体的接受部，所述接受部构成为能够在与所述记录头对置的接受位置和从所述接受位置避让的避让位置之间移动，所述盖被设置成能够切换覆盖所述喷嘴面的周缘的第1状态和从所述周缘离开的第2状态，所述接受部的所述接受位置位于所述盖的所述第1状态与所述第2状态之间的移动轨迹上，在所述接受部的动作中，所述盖采取所述第2状态。
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