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公开(公告)号:CN104377228A
公开(公告)日:2015-02-25
申请号:CN201410508502.5
申请日:2009-10-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L27/32
CPC classification number: H01L27/326 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L27/3246 , H01L27/3276
Abstract: 本发明提供降低了因功能层的膜厚变动引起的亮度不均的有机EL装置及电子设备。该有机EL装置具备:包含基板的基底层;隔壁部,形成在基底层上,相互地划分相邻的第1膜形成区域(7a)和第2膜形成区域(7b);有机EL元件(20G),形成在基底层上俯视下与第1膜形成区域重合的位置;有机EL元件(20B),形成在基底层上俯视下与第2膜形成区域重合的位置;第1驱动电路部,形成在基底层,对有机EL元件(20G)的驱动进行控制;和第2驱动电路部,形成在基底层,对有机EL元件(20B)的驱动进行控制;第1驱动电路部的至少一部分及第2驱动电路部的至少一部分被配置成俯视下与第1膜形成区域重合。
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公开(公告)号:CN104362166A
公开(公告)日:2015-02-18
申请号:CN201410510082.4
申请日:2009-10-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L27/32
CPC classification number: H01L27/326 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L27/3246 , H01L27/3276
Abstract: 本发明提供降低了因功能层的膜厚变动引起的亮度不均的有机EL装置及电子设备。该有机EL装置具备:包含基板的基底层;隔壁部,形成在基底层上,相互地划分相邻的第1膜形成区域(7a)和第2膜形成区域(7b);有机EL元件(20G),形成在基底层上俯视下与第1膜形成区域重合的位置;有机EL元件(20B),形成在基底层上俯视下与第2膜形成区域重合的位置;第1驱动电路部,形成在基底层,对有机EL元件(20G)的驱动进行控制;和第2驱动电路部,形成在基底层,对有机EL元件(20B)的驱动进行控制;第1驱动电路部的至少一部分及第2驱动电路部的至少一部分被配置成俯视下与第1膜形成区域重合。
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公开(公告)号:CN101727828A
公开(公告)日:2010-06-09
申请号:CN200910175778.5
申请日:2009-10-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01L27/326 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L27/3246 , H01L27/3276
Abstract: 本发明提供降低了因功能层的膜厚变动引起的亮度不均的有机EL装置及其制造方法和应用了它们的电子设备。该有机EL装置具备:包含基板的基底层;隔壁部,形成在基底层上,相互地划分相邻的第1膜形成区域(7a)和第2膜形成区域(7b);有机EL元件(20G),形成在基底层上俯视下与第1膜形成区域重合的位置;有机EL元件(20B),形成在基底层上俯视下与第2膜形成区域重合的位置;第1驱动电路部,形成在基底层,对有机EL元件(20G)的驱动进行控制;和第2驱动电路部,形成在基底层,对有机EL元件(20B)的驱动进行控制;第1驱动电路部的至少一部分及第2驱动电路部的至少一部分被配置成俯视下与第1膜形成区域重合。
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