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公开(公告)号：CN104094411A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201380008345.5
申请日：2013-02-06
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: H01L31/0236
CPC classification number: C09K13/02 , C09K13/04 , H01L31/02363 , Y02E10/50
Abstract: 在本发明中，通过使用蚀刻液能够在晶片表面上均匀地形成稳定的良好纹理，该蚀刻液包含一水溶液，该水溶液含有(A)碱性组分和(B)膦酸衍生物或其盐。本发明提供一种用于在硅晶片上形成纹理的蚀刻液，该蚀刻液适用于利用松散磨粒系统的晶片切割的晶片和利用固定磨粒系统切割的晶片，并且在60℃至95℃的加工温度范围内添加剂组分不蒸发。
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公开(公告)号：CN1098373C
公开(公告)日：2003-01-08
申请号：CN96102422.4
申请日：1996-02-15
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 第一工业制药株式会社
IPC: C23G5/032
Abstract: 提供将选自焊药和热融粘合剂之除去对象物从被洗净物上除去的洗净方法。该方法包括用实质上由所定的乙二醇醚成分和所定的链烷系碳氢化合物成分组成的洗净液对该被洗净物进行洗净的步骤。
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公开(公告)号：CN107530917B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201680028130.3
申请日：2016-01-18
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: B29C33/62 , C08L71/02 , C10M107/34 , C10M145/26 , C10N20/04 , C10N30/00 , C10N40/36
Abstract: 本发明提供硫化后的橡胶与模具的脱模性优异且制造后容易将脱模剂除去的硫化橡胶成型用脱模剂。一种硫化橡胶成型用脱模剂，其含有聚氧亚烷基甘油醚(A)，上述聚氧亚烷基甘油醚(A)在氧亚烷基100质量份中含有50～95质量份氧亚乙基。上述聚氧亚烷基甘油醚(A)的数均分子量优选为2000～20000。
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公开(公告)号：CN107530917A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680028130.3
申请日：2016-01-18
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: B29C33/62 , C08L71/02 , C10M107/34 , C10M145/26 , C10N20/04 , C10N30/00 , C10N40/36
Abstract: 本发明提供硫化后的橡胶与模具的脱模性优异且制造后容易将脱模剂除去的硫化橡胶成型用脱模剂。一种硫化橡胶成型用脱模剂，其含有聚氧亚烷基甘油醚(A)，上述聚氧亚烷基甘油醚(A)在氧亚烷基100质量份中含有50～95质量份氧亚乙基。上述聚氧亚烷基甘油醚(A)的数均分子量优选为2000～20000。
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公开(公告)号：CN107109174A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580059037.4
申请日：2015-10-28
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: C09J157/04 , C08F2/24 , C09J11/06
CPC classification number: C09J125/18 , C08F2/24 , C08F220/18 , C08F2220/306 , C09J4/00 , C09J11/06 , C09J125/14 , C09J157/04 , C08F2220/1825 , C08F2220/1858
Abstract: 本发明涉及一种粘合剂组合物，该组合物含有水性树脂分散体，该水性树脂分散体是在由下述通式(I)表示的表面活性剂(A)和不具有能够进行自由基聚合的取代基的表面活性剂(B)的存在下，将包含具有碳‑碳不饱和键的化合物(C1)的聚合性化合物(C)乳化聚合而得到。其中，取代基D表示聚合性的不饱和基团，取代基R0表示碳原子数1～4的烷基，取代基R1表示具有芳香环的烃基，AO表示碳原子数2～4的氧亚烷基。
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公开(公告)号：CN104584232B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380042594.6
申请日：2013-07-29
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: H01L31/0236
CPC classification number: H01L31/02363 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供硅基板的纹理形成用蚀刻液及蚀刻方法，所述蚀刻液可以稳定地在基板表面均匀地形成良好的纹理，在通常的使用温度即60℃～95℃的区域中添加剂成分也不会挥发，适用于通过游离磨粒方式制造的硅基板、通过固定磨粒方式制造的硅基板的任一种硅基板。使用一种蚀刻液，其含有：(A)碱成分、(B)膦酸衍生物或其盐、以及(C)具有选自由羧基、磺基、形成了盐的上述基团和羧甲基组成的组中的至少一种基团的化合物。
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公开(公告)号：CN104584232A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380042594.6
申请日：2013-07-29
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: H01L31/0236
CPC classification number: H01L31/02363 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供硅基板的纹理形成用蚀刻液及蚀刻方法，所述蚀刻液可以稳定地在基板表面均匀地形成良好的纹理，在通常的使用温度即60℃～95℃的区域中添加剂成分也不会挥发，适用于通过游离磨粒方式制造的硅基板、通过固定磨粒方式制造的硅基板的任一种硅基板。使用一种蚀刻液，其含有：(A)碱成分、(B)膦酸衍生物或其盐、以及(C)具有选自由羧基、磺基、形成了盐的上述基团和羧甲基组成的组中的至少一种基团的化合物。
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