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    二次电池的制造方法
    1.
    发明公开
    二次电池的制造方法 有权

    公开(公告)号：CN107078334A

    公开(公告)日：2017-08-18

    申请号：CN201580048139.6

    申请日：2015-09-18

    Applicant: 积水化学工业株式会社

    Inventor： 小川浩 ,  野上光秀

    IPC: H01M10/04 ,  H01M2/02 ,  H01M2/08

    Abstract: 一种二次电池的制造方法，其是用一对膜材料分别覆盖构成电池的层叠体的上表面和下表面，将所述一对膜材料沿着从其中的一端朝向另一端的加工方向依次贴合，从而制造具有膜外装体的二次电池的方法，其特征在于，其包括：第一密封工序，该工序将一对膜材料在夹持构成电池的层叠体的状态下进行重叠，将所述一对膜材料重叠的部分的位于所述加工方向的上游的一端密封；以及，第二密封工序，该工序将重叠的所述膜材料的沿着所述加工方向延伸的两侧端部中的一者或两者沿着所述加工方向依次贴合，进一步地，沿着所述加工方向对重叠的所述膜材料的两侧端部之间的中间部依次按压，对形成于所述一对膜材料之间的内部空间进行脱气。

    表面处理装置
    4.
    发明公开
    表面处理装置 无效

    公开(公告)号：CN102792783A

    公开(公告)日：2012-11-21

    申请号：CN201180012770.2

    申请日：2011-03-04

    Applicant: 积水化学工业株式会社

    Inventor： 野上光秀 ,  中野良宪 ,  佐藤崇 ,  川崎真一 ,  屋良卓也

    IPC: H05H1/24 ,  C23C14/56 ,  H01L21/3065 ,  G02B5/30

    CPC classification number: H01J37/3277 ,  H01J37/32 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/485 ,  H05H2240/10

    Abstract: 本发明提供一种不使处理槽的排气机构成为大型化而能够充分地抑制处理气体成分从处理槽向外部漏出的表面处理装置。利用搬运机构(20)对被处理物(9)以通过处理槽(30)的主室(31)内的处理区域(19)的方式沿着搬运方向搬运。在处理槽(30)且在主室(31)的至少搬出侧设置副室(33)。在对所述室进行分隔的分隔壁(37)及外壁(36)形成能够搬入搬出被处理物(9)的常开的开(37a、36a)。将主室排气机构(40)与主室(31)连接，使主室(31)的内压比槽外的压力低。将副室供气机构(52)与副室(33)连接进行供气，使副室(33)的内压比槽外的压力高。

    用于处理基板的外周部的方法及设备
    5.
    发明授权
    用于处理基板的外周部的方法及设备 有权

    公开(公告)号：CN101124663B

    公开(公告)日：2010-12-01

    申请号：CN200580023196.5

    申请日：2005-07-08

    Applicant: 积水化学工业株式会社

    Inventor： 野上光秀 ,  长谷川平 ,  功刀俊介

    IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  C23F4/00

    Abstract: 一种用于处理基板的外周的方法和装置，在用于从基板的外周部去除不需要的膜时能够避免对基板中心部分的损坏。作为吸热装置的冷却介质室(4)形成在台(10)内，且诸如水的冷却介质填充到其中。晶片(90)被支撑在台(10)的支撑表面(10a)上。晶片(90)的外周部通过加热器(20)被加热，且用于去除不需要的膜的反应性气体从反应性气体出口(30b)供到晶片的被加热部分。另一方面，晶片(90)的在所述外周部的内侧的部分内的热量通过吸热装置吸收。

    等离子加工装置及其电极结构
    6.
    发明公开
    等离子加工装置及其电极结构 无效

    公开(公告)号：CN101146398A

    公开(公告)日：2008-03-19

    申请号：CN200710169239.1

    申请日：2004-03-04

    Applicant: 积水化学工业株式会社

    Inventor： 野上光秀 ,  宫本荣司

    IPC: H05H1/34 ,  H01L21/306

    CPC classification number: H01L21/3065 ,  C23C16/5093 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32724

    Abstract: 一种等离子加工装置及其电极结构，其中内介质通道(17)形成在圆环形内电极(11)的内周面(12a)和容纳在电极(11)中的圆环形内通道形成部件(15)之间。圆环形第一密封部件(18)置于电极和部件(15)的上圆周侧面之间。圆环形第二密封部件(19)置于部件(15)的底部平坦表面(15b)和电极(11)的凸缘部分(13)之间。电极(11)和部件(15)的底部圆周侧面大致相互面对，并且没有任何插入间隙。内电极11经作为气体通道的间隙(lp)被圆环形外电极(21)包围，在气体通道中加工气体被等离子化。外介质通道(27)形成在电极(21)的外周面(22a)和圆环形外通道形成部件(25)之间。第三和第四密封部件(28，29)分别置于电极(21)和部件(25)之间。

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