公开(公告)号：CN107004890A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580061840.1

申请日：2015-12-25

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 寺西利绘 ,  新明健一 ,  加纳正史 ,  正角彰朗 ,  伊藤绅一郎

IPC: H01M10/04 ,  H01M2/16 ,  H01M4/139

Abstract: 一种电极制造方法，其是具有层叠体的电极的制造方法，该层叠体是在电极活性物质层上层叠有绝缘层而成，其包括在所述电极活性物质层上层叠绝缘材料的工序，并且该电极活性物质层形成在基台上，并且以使绝缘层的厚度成为所述电极活性物质层的表面粗糙度Rz的2倍以上的方式层叠所述绝缘层。此处，所述表面粗糙度Rz是通过基于JIS B0601 1994的测定方法测定的十点平均粗糙度。

公开(公告)号：CN107004890B

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN201580061840.1

申请日：2015-12-25

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 寺西利绘 ,  新明健一 ,  加纳正史 ,  正角彰朗 ,  伊藤绅一郎

IPC: H01M10/04 ,  H01M2/16 ,  H01M4/139

Abstract: 一种电极制造方法，其是具有层叠体的电极的制造方法，该层叠体是在电极活性物质层上层叠有绝缘层而成，其包括在所述电极活性物质层上层叠绝缘材料的工序，并且该电极活性物质层形成在基台上，并且以使绝缘层的厚度成为所述电极活性物质层的表面粗糙度Rz的2倍以上的方式层叠所述绝缘层。此处，所述表面粗糙度Rz是通过基于JIS B0601 1994的测定方法测定的十点平均粗糙度。