-
公开(公告)号：CN115696707A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202211492634.4
申请日：2017-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请揭示一种用于抑制激光维持等离子体源的VUV辐射发射的系统及方法。一种用于形成激光维持等离子体的系统包含：气体围阻元件；照明源，其经配置以产生泵激照明；及集光器元件，其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体混合物的体积内产生发射宽带辐射的等离子体。所述气体围阻元件可经配置以围阻包含第一气体组分及第二气体组分的气体混合物的体积。所述第二气体组分抑制离开所述气体混合物的辐射的光谱中所述宽带辐射的与所述第一气体组分相关联的一部分或与所述第一气体组分相关联的一或多个准分子的辐射中的至少一者。
-
公开(公告)号：CN109315058A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780029807.X
申请日：2017-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种用于形成激光维持等离子体的系统，其包含：气体围阻元件；照明源，其经配置以产生泵激照明；及集光器元件，其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体混合物的体积内产生发射宽带辐射的等离子体。所述气体围阻元件可经配置以围阻包含第一气体组分及第二气体组分的气体混合物的体积。所述第二气体组分抑制离开所述气体混合物的辐射的光谱中所述宽带辐射的与所述第一气体组分相关联的一部分或与所述第一气体组分相关联的一或多个准分子的辐射中的至少一者。
-
公开(公告)号：CN108353490A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680066059.8
申请日：2016-09-27
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: H05G2/008 , G01N23/04 , G02B6/0005 , G02B6/0006 , G02B6/0008 , G02B6/02042 , G02B6/028 , G02B6/4215 , G02B27/141
Abstract: 本发明揭示一种照明泵源。所述照明泵源包含一组电源，其经配置以产生一组激光束，其中所述组激光束的至少部分经配置以包含具有不同波长的照明。所述照明泵源还包含光纤。所述照明泵源还包含一或多个光学元件，所述一或多个光学元件经配置以使来自所述激光束的至少部分的所述照明耦合到所述光纤的一或多个区域。
-
公开(公告)号：CN108353490B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201680066059.8
申请日：2016-09-27
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种照明泵源。所述照明泵源包含一组电源，其经配置以产生一组激光束，其中所述组激光束的至少部分经配置以包含具有不同波长的照明。所述照明泵源还包含光纤。所述照明泵源还包含一或多个光学元件，所述一或多个光学元件经配置以使来自所述激光束的至少部分的所述照明耦合到所述光纤的一或多个区域。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.022 seconds)
