公开(公告)号：CN104364605A

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201380030349.3

申请日：2013-04-16

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： 瑞芳·石 ,  A·波克罗夫斯基 ,  A·塞兹希内尔 ,  W·L·苏泽

IPC: G01B11/24 ,  H01L21/66 ,  H01L21/027 ,  G01N21/88

CPC classification number: G01B11/24 ,  G01B11/02 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/8806 ,  G01N2201/06113 ,  G03F1/22 ,  G03F1/70

Abstract: 本发明揭示用于促进使用光学检验工具检验样本的方法及设备。使用光学检验工具从EUV光罩获得指定跨越所述EUV光罩的强度变化的光学图像或信号，且将此强度变化转换为移除了杂散光校正CD变化的CD变化，以便产生不具有所述杂散光校正CD变化的临界尺寸均匀性CDU图谱。此经移除的杂散光校正CD变化起源于用于制作所述EUV光罩的设计数据，且此杂散光校正CD变化通常经设计以在光学光刻工艺期间补偿存在于光学光刻工具的视场FOV内的杂散光差异。将所述CDU图谱存储于例如所述检验工具或光学光刻系统的一或多个存储器装置中及/或显示于所述检验工具或光学光刻系统的显示装置上。

公开(公告)号：CN104364605B

公开(公告)日：2017-06-06

申请号：CN201380030349.3

申请日：2013-04-16

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： 瑞芳·石 ,  A·波克罗夫斯基 ,  A·塞兹希内尔 ,  W·L·苏泽

IPC: G01B11/24 ,  H01L21/66 ,  H01L21/027 ,  G01N21/88

CPC classification number: G01B11/24 ,  G01B11/02 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/8806 ,  G01N2201/06113 ,  G03F1/22 ,  G03F1/70

Abstract: 本发明揭示用于促进使用光学检验工具检验样本的方法及设备。使用光学检验工具从EUV光罩获得指定跨越所述EUV光罩的强度变化的光学图像或信号，且将此强度变化转换为移除了杂散光校正CD变化的CD变化，以便产生不具有所述杂散光校正CD变化的临界尺寸均匀性CDU图谱。此经移除的杂散光校正CD变化起源于用于制作所述EUV光罩的设计数据，且此杂散光校正CD变化通常经设计以在光学光刻工艺期间补偿存在于光学光刻工具的视场FOV内的杂散光差异。将所述CDU图谱存储于例如所述检验工具或光学光刻系统的一或多个存储器装置中及/或显示于所述检验工具或光学光刻系统的显示装置上。