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公开(公告)号：CN113678236A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027481.9
申请日：2020-04-07
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供用于半导体应用的可学习缺陷检测方法及系统。一种系统包含深度度量学习缺陷检测模型，其经配置以用于将样品的测试图像及对应参考图像投影到潜在空间中，确定在所述潜在空间中所述测试图像的一或多个不同部分与所述对应参考图像的对应部分之间的距离，及基于所述经确定距离而检测所述测试图像的所述一或多个不同部分中的缺陷。另一系统包含可学习低秩参考图像产生器，其经配置以用于从样品的一或多个测试图像移除噪声，借此产生对应于所述一或多个测试图像的一或多个参考图像。
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