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公开(公告)号:CN112730533A
公开(公告)日:2021-04-30
申请号:CN202110049653.9
申请日:2021-01-14
Applicant: 福州大学
IPC: G01N27/12
Abstract: 本发明公开了一种Ni修饰的Nb2O5气敏元件及其制备方法与应用,其是将洗净的FTO叉指电极片于含Ni(NO3)2·6H2O和铌酸铵草酸盐水合物的混合溶液中进行水热反应后,将表面长有粉末状NiO/Nb2O5的FTO叉指电极片取出,经去离子水冲洗、烘干、高温煅烧及还原,制得原位水热生成的NixO/Nb2O5气敏元件。本发明所得NixO/Nb2O5气敏元件在室温及紫外光条件下对CO2和H2均显示出了较佳的响应性能,并具有良好的稳定性和重复性,其简化了气敏元件的制备工艺,在半导体光助气敏传感器制备方面具有较好的应用前景。
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公开(公告)号:CN112730533B
公开(公告)日:2021-11-30
申请号:CN202110049653.9
申请日:2021-01-14
Applicant: 福州大学
IPC: G01N27/12
Abstract: 本发明公开了一种Ni修饰的Nb2O5气敏元件及其制备方法与应用,其是将洗净的FTO叉指电极片于含Ni(NO3)2·6H2O和铌酸铵草酸盐水合物的混合溶液中进行水热反应后,将表面长有粉末状NiO/Nb2O5的FTO叉指电极片取出,经去离子水冲洗、烘干、高温煅烧及还原,制得原位水热生成的NixO/Nb2O5气敏元件。本发明所得NixO/Nb2O5气敏元件在室温及紫外光条件下对CO2和H2均显示出了较佳的响应性能,并具有良好的稳定性和重复性,其简化了气敏元件的制备工艺,在半导体光助气敏传感器制备方面具有较好的应用前景。
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