一种高各向异性比、高度取向排布碲化锑二维纳米片的制备方法

    公开(公告)号:CN116121857A

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202310299610.5

    申请日:2023-03-25

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开了一种高各向异性比、高度取向排布碲化锑二维纳米片的制备方法,属于纳米材料制备技术领域。本发明采用化学气相沉积法,以碲化锑粉末作为反应源,以天然云母片作为沉积衬底,Ar/H2混合气作为沉积反应气氛,利用范德华外延生长机制实现了高质量碲化锑纳米片的制备。本方法操作简便,重复性好,工艺简单,沉积效率高,制备出的碲化锑纳米片具有高晶体质量、大横向尺寸(>100um)、超薄纵向厚度(≈10nm)、高各向异性比(>104)、高度取向排布等优点,在纳米光电器件研究领域具有较高研究价值和应用前景。

    一种三元Sb2(Se1-xTex)3二维纳米片的制备方法

    公开(公告)号:CN117566694A

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202311553813.9

    申请日:2023-11-21

    Inventor: 黄兴 杨顺航 李倩

    Abstract: 本发明公开了一种三元Sb2(Se1‑xTex)3二维纳米片的制备方法,属于半导体纳米材料制备技术领域。本发明利用化学气相沉积法,以碲化锑粉末和单质硒粉作为蒸发源,氩气作为沉积反应气氛,通过调控生长源的比例、位置以及反应温度,得到了成分可调、高质量的Sb2(Se1‑xTex)3二维纳米片。本方法工艺简单,对设备要求低,制备出的Sb2(Se1‑xTex)3二维纳米片成分可调,在纳米光电器件研究领域具有较高研究价值和应用前景。

    一种镍基过渡金属配合物及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114874269A

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN202210619002.3

    申请日:2022-06-01

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开了一种镍基过渡金属配合物及其制备方法和应用。所述配合物的化学式为Ni2(pko)4(ppoa)2,其中,Hpko=二(2‑吡啶)酮肟,ppoa=苯基膦酸;属于单斜晶系,C21/c空间群,晶胞参数为a=20.3165(17)Å,b=15.4122(17)Å,c=20.1208(18)Å,α=90°,β=108.827(3)°,γ=90°,Z=4。所述配合物通过扩散法生成,制备方法简单,操作简便;其作为均相催化剂溶解于电解质溶液中,可以作为电催化剂用于将CO2电化学还原为CO。

    一种镍基过渡金属配合物及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114874269B

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN202210619002.3

    申请日:2022-06-01

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开了一种镍基过渡金属配合物及其制备方法和应用。所述配合物的化学式为Ni2(pko)4(ppoa)2,其中,Hpko=二(2‑吡啶)酮肟,ppoa=苯基膦酸;属于单斜晶系,C21/c空间群,晶胞参数为a=20.3165(17)Å,b=15.4122(17)Å,c=20.1208(18)Å,α=90°,β=108.827(3)°,γ=90°,Z=4。所述配合物通过扩散法生成,制备方法简单,操作简便;其作为均相催化剂溶解于电解质溶液中,可以作为电催化剂用于将CO2电化学还原为CO。

    一种单晶六方[111]取向的CdSexTe1-x二维纳米片的制备方法

    公开(公告)号:CN118727137A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410929701.7

    申请日:2024-07-11

    Abstract: 本发明公开了一种单晶六方[111]取向的CdSexTe1‑x二维纳米片的制备方法,属于半导体纳米材料制备技术领域。本发明结合化学气相沉积与范德华外延生长的方法,以碲化镉粉末、硒化镉粉末和氯化镉粉末作为蒸发源,氩气和氢气混合气作为沉积反应气氛,原子级平整的云母作为范德华外延衬底,通过调控生长源的位置以及反应温度和时间,得到了成分可调、高质量的单晶六方[111]取向的CdSexTe1‑x二维纳米片。本方法工艺简单,对设备要求低,制备出的CdSexTe1‑x二维纳米片具有均一的[111]取向,成分可调等优点,在纳米光电器件研究领域具有较高研究价值和应用前景。

    一种碲化锑-硒化锰垂直异质结的制备方法

    公开(公告)号:CN117577706A

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202311545459.5

    申请日:2023-11-20

    Inventor: 黄兴 杨顺航 李倩

    Abstract: 本发明公开了一种碲化锑‑硒化锰垂直异质结及其制备方法,属于半导体纳米材料制备技术领域。利用化学气相沉积法先于云母表面生长二维MnSe纳米片,然后将生长有MnSe纳米片的云母作为衬底,以碲化锑粉末作为蒸发源,氩氢混合气作为沉积反应气氛,进行二次沉积制得Sb2Te3‑MnSe垂直异质结纳米材料,为垂直堆叠层状结构,其中底层为MnSe纳米片,底层上堆叠Sb2Te3层。Sb2Te3较低的生长温度不会破坏类如MnSe的TMDs半导体材料晶格结构,工艺简单,对设备要求低,制备出的Sb2Te3‑MnSe质量高,对于研究纳米级光电子学器件具有重要的意义。

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