一系列Gemini型嵌段共聚物光刻材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118325102A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410504083.1

    申请日:2024-04-25

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开了一种新型Gemini型结构的嵌段共聚物及其合成方法,本发明基于笼状寡聚倍半硅氧烷POSS的大分子引发剂合成了一系列不同链段长度的Gemini型嵌段共聚物,该聚合物可以进一步进行自组装得到纳米级有序图案,这种Gemini型的结构显著提高了嵌段共聚物的自组装能力,进一步减小了特征尺寸。本申请可以作为一种新型光刻材料,所形成的纳米级有序图案可以应用在非易失性存储器、传感器、光致发光器件、大功率器件等领域,为导向自组装光刻技术制造纳米级结构提供了策略和支持。

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