-
公开(公告)号:CN106046022B
公开(公告)日:2018-06-19
申请号:CN201610447110.1
申请日:2011-08-04
Applicant: 盐野义制药株式会社
IPC: C07D498/14
CPC classification number: C07D498/14 , A61K31/5365 , C07B2200/13 , C07D213/80
Abstract: 式(Y1)或式(Y2)(式中,RX为可被取代的碳环低级烷基等)所示的化合物或其盐的制造方法,其使用了式(X4)(式中,R1d为氢、卤素等,R2d为氢、可被取代基组E取代的低级烷基等,R4d为可被取代基组E取代的低级烷基等,以及R6d为可被取代基组E取代的低级烷基等)所示的吡啶酮衍生物的新的制造方法,。
-
公开(公告)号:CN106046022A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201610447110.1
申请日:2011-08-04
Applicant: 盐野义制药株式会社
IPC: C07D498/14
CPC classification number: C07D498/14 , A61K31/5365 , C07B2200/13 , C07D213/80
Abstract: 式(Y1)或式(Y2)(式中,RX为可被取代的碳环低级烷基等)所示的化合物或其盐的制造方法,其使用了式(X4)(式中,R1d为氢、卤素等,R2d为氢、可被取代基组E取代的低级烷基等,R4d为可被取代基组E取代的低级烷基等,以及R6d为可被取代基组E取代的低级烷基等)所示的吡啶酮衍生物的新的制造方法。
-
公开(公告)号:CN103154004A
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN201180048343.X
申请日:2011-08-04
Applicant: 盐野义制药株式会社
IPC: C07D498/14 , A61K31/5365 , A61P31/18 , A61P43/00 , C07D211/94
CPC classification number: C07D498/14 , A61K31/5365 , C07B2200/13 , C07D213/80
Abstract: 式(Y1)或式(Y2)(式中,RX为可被取代的碳环低级烷基等)所示的化合物或其盐的制造方法,其使用了式(X4)(式中,R1d为氢、卤素等,R2d为氢、可被取代基组E取代的低级烷基等,R4d为可被取代基组E取代的低级烷基等,以及R6d为可被取代基组E取代的低级烷基等)所示的吡啶酮衍生物的新的制造方法,。
-
公开(公告)号:CN106083891B
公开(公告)日:2018-03-23
申请号:CN201610447148.9
申请日:2011-08-04
Applicant: 盐野义制药株式会社
IPC: C07D498/14 , C07D213/79
CPC classification number: C07D498/14 , A61K31/5365 , C07B2200/13 , C07D213/80
Abstract: 式(Y1)或式(Y2)(式中,RX为可被取代的碳环低级烷基等)所示的化合物或其盐的制造方法,其使用了式(X4)(式中,R1d为氢、卤素等,R2d为氢、可被取代基组E取代的低级烷基等,R4d为可被取代基组E取代的低级烷基等,以及R6d为可被取代基组E取代的低级烷基等)所示的吡啶酮衍生物的新的制造方法。
-
公开(公告)号:CN103154004B
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201180048343.X
申请日:2011-08-04
Applicant: 盐野义制药株式会社
IPC: C07D498/14 , A61K31/5365 , A61P31/18 , A61P43/00 , C07D211/94
CPC classification number: C07D498/14 , A61K31/5365 , C07B2200/13 , C07D213/80
Abstract: 式(Y1)或式(Y2)(式中,RX为可被取代的碳环低级烷基等)所示的化合物或其盐的制造方法,其使用了式(X4)(式中,R1d为氢、卤素等,R2d为氢、可被取代基组E取代的低级烷基等,R4d为可被取代基组E取代的低级烷基等,以及R6d为可被取代基组E取代的低级烷基等)所示的吡啶酮衍生物的新的制造方法,。
-
公开(公告)号:CN106083891A
公开(公告)日:2016-11-09
申请号:CN201610447148.9
申请日:2011-08-04
Applicant: 盐野义制药株式会社
IPC: C07D498/14 , C07D213/79
CPC classification number: C07D498/14 , A61K31/5365 , C07B2200/13 , C07D213/80
Abstract: 式(Y1)或式(Y2)(式中,RX为可被取代的碳环低级烷基等)所示的化合物或其盐的制造方法,其使用了式(X4)(式中,R1d为氢、卤素等,R2d为氢、可被取代基组E取代的低级烷基等,R4d为可被取代基组E取代的低级烷基等,以及R6d为可被取代基组E取代的低级烷基等)所示的吡啶酮衍生物的新的制造方法,。
-
-
-
-
-