光学数据存储介质及其应用

    公开(公告)号:CN100498941C

    公开(公告)日:2009-06-10

    申请号:CN03812017.8

    申请日:2003-05-14

    CPC classification number: G11B7/24038 G11B7/00557 G11B7/00736

    Abstract: 描述了一种用于可重写记录的多叠层光学数据存储介质(20),所述可重写记录是使用入射面(25)的聚焦辐射束(30)进行的。所述介质(20)具有一个基板(1a,1b)和一个L0记录叠层(2)及一个L1记录叠层(3),这两个记录叠层都包括相变型L0和L1记录层,并且这两个记录叠层借助一个透明间隔层(4)分隔开。所述L0记录叠层(2)位于最接近所述入射面(25)的位置上,并且当所述相变层处于非晶相时,所述L0记录叠层的光透射率为TL0a,而当所述相变层处于晶相时,所述L0记录叠层的光透射率为TL0c。所述介质(20)还包括调制在下述至少其一中的预记录信息:基板(1a,1b)内模压制成的预制槽(21)、基板内模压制成的凹坑和记录层L0和L1(6,11)中的至少一个上所记录的相变标记。所述预记录信息含有一个标志符,根据所述L0叠层(2)的透射率值TL0a和TL0c,指示是否需要对L0记录叠层(2)的L0记录层进行格式化。通过这种方式,实现了这样的效果:即使当所述L0记录层已经局部记录了信息时,所述介质(20)也具有优异的可播放性、可记录性和随机存取性能。

    光学数据存储介质及其应用

    公开(公告)号:CN1656543A

    公开(公告)日:2005-08-17

    申请号:CN03812017.8

    申请日:2003-05-14

    CPC classification number: G11B7/24038 G11B7/00557 G11B7/00736

    Abstract: 描述了一种用于可重写记录的多叠层光学数据存储介质(20),所述可重写记录是使用入射面(25)的聚焦辐射束(30)进行的。所述介质(20)具有一个基板(1a,1b)和一个L0记录叠层(2)及一个L1记录叠层(3),这两个记录叠层都包括相变型L0和L1记录层,并且这两个记录叠层借助一个透明间隔层(4)分隔开。所述L0记录叠层(2)位于最接近所述入射面(25)的位置上,并且当所述相变层处于非晶相时,所述L0记录叠层的光透射率为TL0a,而当所述相变层处于晶相时,所述L0记录叠层的光透射率为TL0c。所述介质(20)还包括调制在下述至少其一中的预记录信息:基板(1a,1b)内模压制成的预制槽(21)、基板内模压制成的凹坑和记录层L0和L1(6,11)中的至少一个上所记录的相变标记。所述预记录信息含有一个标志符,根据所述L0叠层(2)的透射率值TL0a和TL0c,指示是否需要对L0记录叠层(2)的L0记录层进行格式化。通过这种方式,实现了这样的效果:即使当所述L0记录层已经局部记录了信息时,所述介质(20)也具有优异的可播放性、可记录性和随机存取性能。

    光学数据载体盘,光盘读取器和方法及制造压模的方法

    公开(公告)号:CN1329891C

    公开(公告)日:2007-08-01

    申请号:CN02824741.8

    申请日:2002-12-02

    CPC classification number: G11B7/24085 G11B7/261

    Abstract: 一种光学数据载体盘读取器,其适用于检测一光盘的数据轨道中的壁的斜度。一种光盘,在其数据轨道中具有凹坑(811,812),所述凹坑具有至少两种不同陡度的壁。该陡度表示写入到所述光盘上的信息。还描述了一种用于制造光盘压模(8)的方法,所述方法包括用电磁辐射对一部分感光层进行曝光的步骤。通过控制在曝光过程中的焦点变化,则可控制在所述凸起(811,812)或凹坑形成部分与光盘压模(8)的表面的“平台”形成部分之间的壁的斜度。

    在光学数据载体盘上保存附加数据

    公开(公告)号:CN1608287A

    公开(公告)日:2005-04-20

    申请号:CN02824741.8

    申请日:2002-12-02

    CPC classification number: G11B7/24085 G11B7/261

    Abstract: 一种光学数据载体盘读取器,其适用于检测一光盘的数据轨道中的壁的斜度。一种光盘,在其数据轨道中具有凹坑(811,812),所述凹坑具有至少两种不同陡度的壁。该陡度表示写入到所述光盘上的信息。还描述了一种用于制造光盘压模(8)的方法,所述方法包括用电磁辐射对一部分感光层进行曝光的步骤。通过控制在曝光过程中的焦点变化,则可控制在所述凸起(811,812)或凹坑形成部分与光盘压模(8)的表面的“平台”形成部分之间的壁的斜度。

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