光子晶体LED
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101904020B

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:CN200880121372.2

    申请日:2008-12-12

    Abstract: 一种半导体发光二极管(1,LED),包括用于跨产生光的活性区(4)施加电压的第一和第二电极(40,11)、发光表面(6)以及多个光子晶体(101,102)。此外,至少两个第一和第二类型的光子晶体(101,102)适于从活性区(4)提取光并且在至少一个晶格参数方面彼此不同。所述至少两个光子晶体(101,102)中的每一个与对应的远场模式关联,其中提供所述多个光子晶体(101,102)的布置以便设置所述至少两个光子晶体(101,102)。通过这种方式,通过组合与所述至少两个光子晶体(101,102)中的每一个关联的所述对应的远场模式形成远场模式。

    线栅波导
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101583864A

    公开(公告)日:2009-11-18

    申请号:CN200780047702.3

    申请日:2007-12-17

    CPC classification number: G01N21/774 G01N21/648 G01N2021/6467

    Abstract: 提供了一种波导,其包括:波引导介质,具有一定折射率并且在第一和第二波传播平面结构之间被提供,至少所述第一平面结构包括多个有切口的孔径,其限定了所述第一反射结构的长度轴;这些有切口的孔径被构造和设置成反射取向平行于所述长度轴的所述辐射的R偏振分量;并且其中所述第一平面结构设置在所述波引导介质与具有等于或大于波引导介质的折射率的相邻介质之间。在本发明的一个方面中,提出了限制激发区域的波导,其中激发发光体;基本上与波导的周围介质无关。优选地,该波导用在发光传感器中。

    纳米颗粒基无机粘合材料

    公开(公告)号:CN101501872A

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200780029449.9

    申请日:2007-08-06

    CPC classification number: H01L33/58 H01L27/15 H01L33/44

    Abstract: 提供一种用于制作发光装置的方法,包括:提供至少一个LED(10)和至少一个光学元件(13);将粘合材料(12)布置在所述至少一个LED的发光表面(11)上和/或所述至少一个光学元件(13)的表面上,该粘合材料(12)包含分散于液体介质中的无机金属氧化物纳米颗粒的稳定溶胶;(c)将所述至少一个光学元件(13)置于所述至少一个LED(10)的发光表面(11)上,所述粘合材料(12)位于其间,以形成至少一个组件;以及固化所述粘合材料以形成无机粘合。该粘合材料可以在对LED无害的温度固化,且所得到的粘合是光热稳定的。

    发光器件
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101160672A

    公开(公告)日:2008-04-09

    申请号:CN200680012156.5

    申请日:2006-04-12

    CPC classification number: H01L33/58 Y10T156/10

    Abstract: 本发明涉及一种发光器件,它包括:至少一个发光二极管芯片(12);和借助粘结剂(16)连接到所说芯片(一个或多个)的一个无机光学元件(14)。所说发光器件的特征在于:粘结剂是一种粘结材料,粘结材料包括一种基质,该基质包括硅和氧原子,氧原子利用烃基直接键合到硅原子的至少一部分上。这样的无机-有机粘结材料具有极高的光和热稳定性。结果,可以使用高功率和高流明的发光二极管芯片,借此可实现高亮度的发光器件。本发明还涉及制造这样一种发光器件的方法。

    用于挠性板件和基板接触的方法和系统

    公开(公告)号:CN101583436B

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN200880002343.4

    申请日:2008-01-11

    Abstract: 本发明涉及一种以改进的横向对准使挠性板件接触到第一元件的方法。该方法包括步骤:在第一阶段中在建立挠性板件与第一元件及称为锚件的板件驻留表面任意其一之间的第一接触之后,测量第一横向未对准。如果该未对准超出预定阈值,挠性板件驻留在锚件使得其不接触第一元件,且第一元件和锚件的相对位置在第二阶段被变更以校正在该方法下一步骤内将建立的挠性板件和第一元件之间接触期间的失配。在偏移接触点以得到第二阶段的步骤期间,与用于建立初始接触的工艺相比,该接触工艺更精确和可重复。本发明还涉及用于执行该方法的设备以及该方法和设备用于制作装置的用途。

    具有光谱深度的校准相机

    公开(公告)号:CN102084290A

    公开(公告)日:2011-06-01

    申请号:CN200980109464.3

    申请日:2009-03-13

    Abstract: 提供了一种成像设备(300)、包括该成像设备(300)的照明控制系统(400)以及用于利用参考图像调整至少一个光源(240)照射的场所(220)的照明的方法。所述成像设备(300)和/或照明控制系统(400)包括至少一个被配置成控制该成像设备(300)和光源(240)的处理器(410)。该成像设备(300)具有:反射器阵列(320),其包括可选择的反射器;透镜,其被配置成接收图像光线(330)以用于形成包含像素的图像并且提供图像光线(330)给反射器阵列(320)以便反射为反射光线(355);以及检测器(310),其被配置成接收反射光线(355)并且检测图像的每个像素的特性以便形成分辨图像。处理器(410)进一步被配置成顺序地选择反射器阵列(320)的每个反射器(350)以便将反射光线(355)反射到检测器(310)。

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