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发明公开
用于X射线管焦斑尺寸和位置控制的设备及方法无效

公开(公告)号：CN101558468A

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：CN200780045883.6

申请日：2007-12-07

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： L·科赫 , W·克罗斯特 , H·罗洛夫

IPC: H01J35/14 , H05G1/52

CPC classification number: H05G1/52 , H01J35/14

Abstract: 一种用于X射线管焦斑参数控制的设备及方法，其中，在X射线管中探测到杂散电子。所探测到的电子导致了一种具有特征模式的信号。可以对所述特征模式进行评估，并且基于评估可以输出控制信号，从而可基于所探测的杂散电子实施对X射线管的操作参数的快速并且精确的控制。

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