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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1846162A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200480025497.7
申请日：2004-08-26
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·库尔特 , G·W·特胡夫特 , R·F·M·亨德里克斯
CPC classification number: G03F7/70291 , G02B26/0808
Abstract: 一种空间控制辐射光束(b)强度的可编程光学部件(10)，该部件包括分配在可编程元件(4，6，8)中的可编程层，特征在于每个可编程元件包括通过驱动场在不弯曲状态(8)和弯曲状态(8’)之间可切换的可弯曲纳米元件(8)。在弯曲状态纳米元件吸收辐射。可编程元件可以是可切换衍射光栅或可编程掩模。
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公开(公告)号：CN100520581C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200410008010.6
申请日：2004-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·F·M·肯德里克斯 , E·伦德林克 , R·蒙肖维 , A·M·范德里 , G·W·特胡夫特
CPC classification number: G03F7/70483 , G03F7/70216 , G03F9/7065
Abstract: 一种光刻投影装置，包括：-辐射系统，用于产生辐射的投射光束；-支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想的图案而对投射光束构图；-基底台，用于固定基底；-投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上，以及-偏轴对准系统，包括辐射源，该辐射源照射可用于对准的至少一个标记，该标记位于固定在所述基底台的基底上，辐射源包括用于产生具有高亮度和相对较窄的第一波长谱的激光或类似激光射线的第一装置，以及用于引导射线并且产生基本上在该射线波长范围内具有第二波长谱的光的第二装置，其中第二波长谱基本上比第一波长谱宽。
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公开(公告)号：CN1802589A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200480015660.1
申请日：2004-06-02
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·库特 , G·W·特胡夫特 , R·F·M·亨德里克斯
Abstract: 本发明提供了一种显示设备，其中通过可弯曲元件特别是纳米线或纳米管的弯曲来引起电光效应。利用光束在显示器的区域中提供可弯曲元件的阵列。在可弯曲元件基本上垂直于衬底取向的情况下，这些可弯曲元件是透明的，但是如果这些可弯曲元件以一定角度弯曲，那么它们将吸收光，利用偏振光在此很重要。可弯曲元件优选通过一层介电材料与电极分开，并且在电场或磁场的影响下发生弯曲。
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公开(公告)号：CN1527139A
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：CN200410008010.6
申请日：2004-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·F·M·肯德里克斯 , E·伦德林克 , R·蒙肖维 , A·M·范德里 , G·W·特胡夫特
CPC classification number: G03F7/70483 , G03F7/70216 , G03F9/7065
Abstract: 一种光刻投影装置，包括：辐射系统，用于产生辐射的投射光束；支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想的图案而对投射光束构图；基底台，用于固定基底；投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上，以及偏轴对准系统，包括辐射源，该辐射源照射可用于对准的至少一个标记，该标记位于固定在所述基底台的基底上，辐射源包括用于产生具有高亮度和相对较窄的第一波长谱的激光或类似激光射线的第一装置，以及用于引导射线并且产生基本上在该射线波长范围内具有第二波长谱的光的第二装置，其中第二波长谱基本上比第一波长谱宽。
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公开(公告)号：CN100376917C
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN200480025497.7
申请日：2004-08-26
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·库尔特 , G·W·特胡夫特 , R·F·M·亨德里克斯
CPC classification number: G03F7/70291 , G02B26/0808
Abstract: 一种空间控制辐射光束(b)强度的可编程光学部件(10)，该部件包括分配在可编程元件(4，6，8)中的可编程层，特征在于每个可编程元件包括通过驱动场在不弯曲状态(8)和弯曲状态(8’)之间可切换的可弯曲纳米元件(8)。在弯曲状态纳米元件吸收辐射。可编程元件可以是可切换衍射光栅或可编程掩模。
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