公开(公告)号：CN117085712A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202311057525.4

申请日：2023-08-21

Applicant: 电子科技大学 ,  浙江大学苏州工业技术研究院

Inventor： 叶青青 ,  张文东 ,  马文君 ,  江艾林 ,  马悦芮 ,  艾旺星 ,  陈鹏 ,  董帆

IPC: B01J27/132 ,  C01B32/40

Abstract: 本发明公开了一种多活性位点协同的Bi/OVs‑Bi2WO6‑Cl催化剂及其制备方法和应用，属于光催化技术领域，本发明采用水热法将Cl掺杂到Bi2WO6中，随后利用化学还原法原位还原生成Bi单质和氧空位，多种活性位点的引入，一方面促进光生电子‑空穴对的有效分离，充分的发挥了半导体的催化性能，另一方面能提供更多的CO2活化位点，最终使Bi/OVs‑Bi2WO6‑Cl光催化剂具有更好的CO2还原性能；该材料的光催化选择性高、且制作成本低、生产工艺简单。

公开(公告)号：CN117085711A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202311055086.3

申请日：2023-08-21

Applicant: 浙江大学苏州工业技术研究院 ,  电子科技大学

Inventor： 张文东 ,  马文君 ,  叶青青 ,  江艾林 ,  艾旺星 ,  马悦芮 ,  陈鹏 ,  董帆

IPC: B01J27/132 ,  C01B32/40

Abstract: 本发明公开了一种卤素掺杂的Bi2WO6/Bi3.84W0.16O6.24催化剂及其制备方法和应用，属于光催化技术领域，通过将Bi(NO3)3·5H2O、Na2WO4·2H2O和NaCl按摩尔比为2︰1︰1分散于水中，氢氧化钠溶液调节pH至11‑12，在不锈钢高压釜中150～180℃反应15‑25h，洗涤、干燥得到Cl掺杂的Bi2WO6/Bi3.84W0.16O6.24，该材料的光催化选择性高、制作成本低、生产工艺简单，且具有比Bi2WO6、Bi3.84W0.16O6.24和Bi2WO6/Bi3.84W0.16O6.24光催化剂更高的光催化CO2还原性能。